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1. (WO2011126044) 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法および製造装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/126044 国際出願番号: PCT/JP2011/058698
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 06.04.2011
IPC:
B29C 33/58 (2006.01) ,B29C 33/70 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
33
型またはコア;その細部または付属装置
56
被覆剤;離型剤,潤滑剤または分離剤
58
離型剤の適用
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
33
型またはコア;その細部または付属装置
70
保守
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
三菱レイヨン株式会社 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目1番1号 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008253, JP (AllExceptUS)
小澤 覚 OZAWA Satoru [JP/JP]; JP (UsOnly)
中井 祐介 NAKAI Yusuke [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
小澤 覚 OZAWA Satoru; JP
中井 祐介 NAKAI Yusuke; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA Masatake; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 1-9-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1006620, JP
優先権情報:
2010-09045609.04.2010JP
発明の名称: (EN) PRODUCTION METHOD AND PRODUCTION DEVICE FOR ARTICLE HAVING MICRORELIEF STRUCTURE ON SURFACE THEREOF
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET DISPOSITIF DE PRODUCTION POUR ARTICLE PRÉSENTANT UNE STRUCTURE FINEMENT ACCIDENTÉE SUR SA SURFACE
(JA) 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法および製造装置
要約:
(EN) Provided is a method for producing an article having a microrelief structure on the surface thereof, wherein a microrelief structure on the surface of a roll-shaped mold, the surface of which has been treated by release agent, is transferred onto a surface of a film (article body), and wherein the method comprises transferring the finely rugged structure to the surface of the film, measuring the infrared spectroscopic spectrum of the surface of the roll-shaped mold from which the film has been removed, and assessing whether the status of the release agent is good or bad on the surface of the roll-shaped mold on the basis of the infrared spectroscopic spectrum. The production method and the production device for an article having a microrelief structure on the surface thereof enables the easy online monitoring of the status of the release agent on the surface of the mold, and can suppress reductions in productivity.
(FR) La présente invention concerne un procédé permettant de produire un article présentant une structure finement accidentée sur sa surface, une structure finement accidentée sur la surface d'un moule laminé dont la surface a été traitée par un agent de détachement étant transférée sur une surface d'un film (corps d'article). Le procédé comprend les étapes consistant à transférer la structure finement accidentée sur la surface du film, à mesurer le spectre spectroscopique infrarouge de la surface du moule laminé duquel le film a été retiré, et à évaluer si le statut de l'agent de détachement est bon ou mauvais sur la surface du moule laminé sur la base du spectre spectroscopique infrarouge. Grâce au procédé de production et au dispositif de production pour un article présentant une structure finement accidentée sur sa surface, le statut de l'agent de détachement sur la surface du moule peut être facilement contrôlé en ligne, et une baisse de productivité peut être évitée.
(JA)  本発明は、表面が離型剤で処理されたロール状モールドの表面の微細凹凸構造を、フィルム(物品本体)の表面に転写して、微細凹凸構造を表面に有する物品を製造する際に、微細凹凸構造をフィルムの表面に転写すること、前記フィルムをモールドから剥離した後のロール状モールドの表面の赤外分光スペクトルを測定すること、および前記赤外分光スペクトルに基づいてロール状モールドの表面の離型剤の状態の良否を判定することを含む、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法に関する。本発明は、モールド表面の離型剤の状態をオンラインで簡易にモニタリングでき、生産性の低下を抑えることができる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法および製造装置を提供することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN102933363JPWO2011126044