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1. (WO2011126039) 薄膜の作製方法及び作製装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/126039 国際出願番号: PCT/JP2011/058680
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 06.04.2011
IPC:
B05D 1/02 (2006.01) ,B05B 13/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
02
噴霧によって行なわれるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B
霧化装置;噴霧装置;ノズル
13
1/00から11/00に包含されない,噴霧によって対象物または他の加工物の表面に液体または流動性材料を適用させるための機械またはプラント
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031, JP (AllExceptUS)
沖 和宏 OKI Kazuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
安藤 広敏 ANDOU Hirotoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
沖 和宏 OKI Kazuhiro; JP
安藤 広敏 ANDOU Hirotoshi; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKs & Co.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2010-08931908.04.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THIN FILM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT DE FABRIQUER UN FILM MINCE
(JA) 薄膜の作製方法及び作製装置
要約:
(EN) Disclosed is a method for manufacturing a thin film having a high film density using a spray film-forming method. The method for manufacturing a thin film sequentially includes: step of forming liquid droplets by spraying a raw material liquid, which has a solute dissolved and/or diffused in a solvent; a step of volatilizing and condensing the solvent in the liquid droplets; and a step of depositing the condensed liquid droplets on a substrate or on a thin film provided on the substrate. The method is characterized in depositing, at the same time on the substrate, the liquid droplets having liquid droplet diameters different from each other.
(FR) La présente invention concerne un procédé permettant de fabriquer un film mince présentant une densité de film élevée au moyen d'un procédé de formation de film par pulvérisation. Le procédé permettant de fabriquer un film mince comprend de manière séquentielle : une étape de formation de gouttelettes de liquide par pulvérisation d'un liquide de matière première qui présente un soluté dissous et/ou diffusé dans un solvant ; une étape consistant à volatiliser et condenser le solvant dans les gouttelettes de liquide ; et une étape consistant à déposer les gouttelettes de liquide condensé sur un substrat ou sur un film mince disposé sur le substrat. Le procédé est caractérisé par un dépôt, en même temps sur le substrat, de gouttelettes de liquide présentant des diamètres de gouttelettes de liquide différents les uns des autres.
(JA)  スプレー製膜法を利用して、高い膜密度の薄膜を作製する方法の提供。 溶質を溶媒中に溶解及び/又は分散してなる原料液を噴霧して液滴を形成すること、液滴中の溶媒を揮発させ濃縮すること、濃縮された液滴を基板上もしくは基板上に設けられた薄膜の上に堆積させること、を順次含む薄膜の作製方法であって、基板に、液滴径が互いに異なる液滴を同時に堆積させることを特徴とする薄膜の作製方法である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN102834187