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1. (WO2011125686) 感放射線性樹脂組成物及び重合体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/125686 国際出願番号: PCT/JP2011/057921
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 29.03.2011
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 220/18 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
12
一価のアルコールまたはフェノールのエステル
16
フェノールまたは2個以上の炭素原子をもつアルコールのエステル
18
アクリル酸またはメタクリル酸との
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP (AllExceptUS)
堀 雅史 HORI Masafumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
中島 浩光 NAKASHIMA Hiromitsu [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
堀 雅史 HORI Masafumi; JP
中島 浩光 NAKASHIMA Hiromitsu; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; 兵庫県神戸市中央区相生町1丁目1番18号 富士興業西元町ビル6階 天野特許事務所内 c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025, JP
優先権情報:
2010-08449231.03.2010JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET POLYMÈRE
(JA) 感放射線性樹脂組成物及び重合体
要約:
(EN) Disclosed are: a radiation-sensitive resin composition which can fulfill various requirements such as the reduction in CDU (CD uniformity) and MEEF (mask error enhanced factor) during the formation of a hole pattern; and a polymer for use in the composition. Specifically disclosed are: a polymer which has a repeating unit having a specific structure and containing an adamantane structure and a repeating unit having a specific structure and containing a cycloalkane structure; and a radiation-sensitive resin composition containing the polymer.
(FR) La présente invention concerne : une composition de résine sensible au rayonnement qui peut répondre à différents besoins tels que la réduction de CDU (uniformité de CD) et MEEF (facteur amplifié d'erreur de masque) pendant la formation d'un motif de trou ; et un polymère pour utilisation dans la composition. La présente invention concerne spécifiquement : un polymère qui a un motif de répétition ayant une structure spécifique et contenant une structure d'adamantane et un motif de répétition ayant une structure spécifique et contenant une structure de cycloalcane ; et une composition de résine sensible au rayonnement contenant le polymère.
(JA)  本発明は、ホールパターン形成時に、CDU(CD Uniformity)、MEEF(Mask Error Enhanced Factor)の低減等の多様な要求特性を満足させる感放射線性樹脂組成物及びそれに用いる重合体を提供することを目的とする。アダマンタン構造を有する特定構造の繰り返し単位と、シクロアルカン構造を有する特定構造の繰り返し単位とを含む重合体と、上記重合体を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2011125686JP2016048374