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1. (WO2011125685) 感放射線性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/125685 国際出願番号: PCT/JP2011/057920
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 29.03.2011
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08L 33/06 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
33
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,またはその塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
04
エステルの単独重合体または共重合体
06
炭素,水素および酸素のみを含有し,しかもその酸素はカルボキシル基の一部分としてのみ存在するエステルの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP (AllExceptUS)
冨岡 寛 TOMIOKA Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
大塚 昇 OOTSUKA Noboru [JP/JP]; JP (UsOnly)
征矢野 晃雅 SOYANO Akimasa [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
冨岡 寛 TOMIOKA Hiroshi; JP
大塚 昇 OOTSUKA Noboru; JP
征矢野 晃雅 SOYANO Akimasa; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; 兵庫県神戸市中央区相生町1丁目1番18号 富士興業西元町ビル6階 天野特許事務所内 c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025, JP
優先権情報:
2010-08449131.03.2010JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) 感放射線性樹脂組成物
要約:
(EN) Disclosed is a radiation-sensitive resin composition which contains a radiation-sensitive acid generating agent [B], and a polymer [A] which contains a structural unit (I) represented by formula (a1), a structural unit (II) represented by formula (a2), and a structural unit (III) which has a lactone structure. Therein the inclusion ratio of the structural unit (I) relative to the total structural units forming the polymer [A] is at least 50 mole%. It is preferable that polymer [A] further contains a structural unit (III) which has a lactone structure. It is preferable that structural unit (I) is a structural unit (I-1) represented by formula (a1-1).
(FR) La présente invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui contient un agent de génération d'acide sensible au rayonnement [B], et un polymère [A] qui contient un motif structural (I) représenté par la formule (a1), un motif structural (II) représenté par la formule (a2), et un motif structural (III) qui a une structure de lactone. Dans celle-ci, le rapport d'inclusion du motif structural (I) par rapport aux motifs structuraux totaux formant le polymère [A] est d'au moins 50 % en moles. Il est préférable que le polymère [A] contienne en outre un motif structural (III) qui a une structure de lactone. Il est préférable que le motif structural (I) soit un motif structural (I-1) représenté par la formule (a1-1).
(JA)  本発明は、[A]下記式(a1)で表される構造単位(I)、下記式(a2)で表される構造単位(II)及びラクトン構造を含む構造単位(III)を有する重合体、並びに[B]感放射線性酸発生剤を含有し、上記構造単位(I)の含有割合が、[A]重合体を構成する全構造単位に対して50モル%以上である感放射線性樹脂組成物である。[A]重合体が、ラクトン構造を有する構造単位(III)をさらに有することが好ましい。上記構造単位(I)が、下記式(a1-1)で表される構造単位(I-1)であることが好ましい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2011125685KR1020130008576