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1. (WO2011125337) 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスク
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/125337 国際出願番号: PCT/JP2011/002090
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 08.04.2011
IPC:
C23C 14/06 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
出願人:
HOYA株式会社 HOYA CORPORATION [JP/JP]; 東京都新宿区中落合2丁目7番5号 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525, JP (AllExceptUS)
野澤 順 NOZAWA, Osamu [JP/JP]; JP (UsOnly)
宍戸 博明 SHISHIDO, Hiroaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
酒井 和也 SAKAI, Kazuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
野澤 順 NOZAWA, Osamu; JP
宍戸 博明 SHISHIDO, Hiroaki; JP
酒井 和也 SAKAI, Kazuya; JP
代理人:
藤村 康夫 FUJIMURA, Yasuo; 東京都港区南青山2丁目2番15号 ウィン青山834号 Room 834, Winaoyama Bldg. 2-15, Minamiaoyma 2-chome Minato-ku, Tokyo 1070062, JP
優先権情報:
2010-09043509.04.2010JP
発明の名称: (EN) PHASE SHIFT MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND PHASE SHIFT MASK
(FR) EBAUCHE DE MASQUE À DÉPHASAGE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET MASQUE À DÉPHASAGE
(JA) 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスク
要約:
(EN) Disclosed are a phase shift mask blank and a manufacturing method thereof capable of increasing the mask service life and of improving the resistance to light of an optical semitransparent film (a phase shift film) configured from a material having as main components nitrogen, silicon and a transition metal for exposure light of wavelength 200nm or less; also disclosed is the phase shift mask. The phase shift mask blank, which is used for creating phase shift masks suitable for ArF excimer laser exposure, is provided with an optical semi-transmissive film on a transparent substrate, wherein the optical semi-transmissive film is configured from an incomplete nitridation film having as main components nitrogen, silicon and a transition metal, and the content ratio of the transition metal to the transition metal and the silicon in the optical semi-transmissive film is less than 9%.
(FR) La présente invention concerne une ébauche de masque à déphasage, et son procédé de fabrication, susceptible de prolonger la durée de vie du masque et d'améliorer la résistance à la lumière d'un film optique semi-transparent (un film à déphasage) constitué d'un matériau ayant pour principaux composants l'azote, le silicium et un métal de transition permettant une exposition à une lumière ayant une longueur d'onde inférieure ou égale à 200 nm. La présente invention concerne également le masque à déphasage. L'ébauche de masque à déphasage, qui sert à fabriquer des masques à déphasage adaptés à une exposition à un laser à excimères ArF, est pourvue d'un film optique semi-transmissif placé sur un substrat transparent, le film optique semi-transmissif étant constitué d'un film de nitruration incomplète ayant pour principaux composants l'azote, le silicium et un métal de transition. Dans le film optique semi-transmissif, le rapport de la teneur en métal de transition à la teneur en métal de transition associé au silicium est inférieur à 9 %.
(JA) [課題]波長200nm以下の露光光に対する遷移金属、ケイ素及び窒素を主成分とする材料からなる光半透光膜(位相シフト膜)の耐光性を向上させ、マスク寿命を改善できる位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクを提供する。 [解決手段]ArFエキシマレーザー露光光が適用される位相シフトマスクを作製するために用いられる位相シフトマスクブランクであって、 透光性基板上に、光半透過膜を備え、 前記光半透過膜は、遷移金属、ケイ素及び窒素を主成分とする不完全窒化物膜からなり、 前記光半透過膜の遷移金属とケイ素との間における遷移金属の含有比率が9%未満であることを特徴とする位相シフトマスクブランクである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130071777JPWO2011125337JP2013254206US20150168823KR1020130103314CN102834773
KR1020180041266