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1. (WO2011125291) ホモアダマンタン誘導体、その製造方法及びフォトレジスト用感光性材料
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/125291 国際出願番号: PCT/JP2011/001532
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 16.03.2011
IPC:
C07D 313/10 (2006.01) ,C08F 20/26 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
313
異項原子として1個の酸素原子のみをもつ7員以上の環を含有する複素環式化合物
02
7員環
06
炭素環または環系と縮合したもの
10
2個の6員環と縮合したもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
26
カルボキシ酸素以外に酸素を含有するエステル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
出光興産株式会社 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321, JP (AllExceptUS)
田中 慎司 TANAKA, Shinji [JP/JP]; JP (UsOnly)
上野山 義崇 UENOYAMA, Yoshitaka [JP/JP]; JP (UsOnly)
大野 英俊 ONO, Hidetoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
河野 直弥 KAWANO, Naoya [JP/JP]; JP (UsOnly)
伊藤 克樹 ITO, Katsuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
田中 慎司 TANAKA, Shinji; JP
上野山 義崇 UENOYAMA, Yoshitaka; JP
大野 英俊 ONO, Hidetoshi; JP
河野 直弥 KAWANO, Naoya; JP
伊藤 克樹 ITO, Katsuki; JP
代理人:
渡辺 喜平 WATANABE, Kihei; 東京都千代田区神田須田町一丁目26番 芝信神田ビル3階 Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor, 26, Kanda Suda-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
優先権情報:
2010-08635202.04.2010JP
発明の名称: (EN) HOMOADAMANTANE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR PHOTORESIST
(FR) DÉRIVÉ D'HOMO-ADAMANTANE, SA MÉTHODE DE PRODUCTION ET MATÉRIAU PHOTOSENSIBLE POUR PHOTORÉSIST
(JA) ホモアダマンタン誘導体、その製造方法及びフォトレジスト用感光性材料
要約:
(EN) Disclosed is a homoadamantane derivative represented by formula (I). In the formula, R1 and R2 each represent a hydrogen atom or C&1-6& linear, branched or cyclic hydrocarbon group; X represents a hydroxyl group or halogen atom; and n and m are each an integer of 0 - 3. Here, n and m are not 0 at the same time.
(FR) La présente invention concerne un dérivé d'homo-adamantane de formule (I). Dans la formule, chacun des radicaux R1 et R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupement hydrocarbure linéaire, ramifié ou cyclique en C1-6 ; X représente un groupement hydroxyle ou un atome d'halogène ; et chacun des nombres n et m représente un entier compris entre 0 et 3 inclus. Dans la présente invention, n et m ne sont pas tous deux égaux à 0 simultanément.
(JA) 下記式(I)で表されるホモアダマンタン誘導体。式中、R,Rはそれぞれ水素原子又は炭素数1~6の直鎖状、分岐状又は環状の炭化水素基を表し、Xは水酸基又はハロゲン原子を表し、n,mはそれぞれ0~3の整数である。ただし、nとmが同時に0になることはない。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130022914CN103097371KR1020130034016CN104877067US20150316847KR1020170091182
KR1020180128100