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1. (WO2011125099) スタンパ製造用原盤
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/125099 国際出願番号: PCT/JP2010/002454
国際公開日: 13.10.2011 国際出願日: 02.04.2010
IPC:
G11B 7/26 (2006.01)
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
7
光学的手段による記録または再生,例.光ビームの照射による記録,低パワー光ビームを用いる再生;そのための記録担体
24
形状、構造または物性によって、または材料の選定によって特徴づけられる記録担体
26
記録担体の製造に特に適した方法または装置
出願人:
株式会社 東芝 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 東京都港区芝浦一丁目1番1号 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001, JP (AllExceptUS)
柏田沙織 KASHIWADA, Saori; null (UsOnly)
大沢裕一 OHSAWA, Yuichi; null (UsOnly)
伊藤順一 ITO, Junichi; null (UsOnly)
鎌田親義 KAMATA, Chikayoshi; null (UsOnly)
鎌田芳幸 KAMATA, Yoshiyuki; null (UsOnly)
発明者:
柏田沙織 KASHIWADA, Saori; null
大沢裕一 OHSAWA, Yuichi; null
伊藤順一 ITO, Junichi; null
鎌田親義 KAMATA, Chikayoshi; null
鎌田芳幸 KAMATA, Yoshiyuki; null
代理人:
砂井 正之 SAGOI, Masayuki; 東京都港区芝浦一丁目1番1号 東芝テクノセンター株式会社内 c/o TOSHIBA TECHNO CENTER INC. 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) MASTER FOR PRODUCING STAMPER
(FR) GABARIT DESTINÉ À PRODUIRE UN DISPOSITIF À POINÇONNER
(JA) スタンパ製造用原盤
要約:
(EN) Disclosed is a master for producing a stamper. A master (10) comprises: a substrate (40) including a first material (20); a region which includes a second material (30) and is formed on the surface of the substrate (40); and protrusions (50) which are formed on the surface of the substrate (40). The first material (20) is silicon, and the second material (30) is selected from silicon oxide, aluminium oxide, titanium oxide and glass.
(FR) Cette invention se rapporte à un gabarit destiné à produire un dispositif à poinçonner. Un gabarit (10) comprend : un substrat (40) qui comprend un premier matériau (20) ; une région qui comprend un second matériau (30) et qui est formée sur la surface du substrat (40) ; et des saillies (50) qui sont formées sur la surface du substrat (40). Le premier matériau (20) est du silicium et le second matériau (30) est sélectionné dans le groupe constitué par l'oxyde de silicium, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde de titane et le verre.
(JA)  第1の材料20を含む基板40と、第2の材料30を含み、基板40表面に形成された領域と、基板40表面に形成された突起50と、を備え、第1の材料20はシリコンであり、第2の材料30はシリコン酸化物、アルミ酸化物、チタン酸化物、及びガラスから選択されることを特徴とするスタンパ製造用原盤10。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2011125099