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1. (WO2011122096) パターンドメディアの欠陥検査装置及びそれを用いたパターンドメディア用スタンパの検査方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/122096 国際出願番号: PCT/JP2011/052051
国際公開日: 06.10.2011 国際出願日: 01.02.2011
IPC:
G11B 5/84 (2006.01) ,G01N 21/95 (2006.01)
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP (AllExceptUS)
堀江 聖岳 HORIE Kiyotaka [JP/JP]; JP (UsOnly)
日下 優 KUSAKA Yu [JP/JP]; JP (UsOnly)
谷中 優 YANAKA Yu [JP/JP]; JP (UsOnly)
芹川 滋 SERIKAWA Shigeru [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
堀江 聖岳 HORIE Kiyotaka; JP
日下 優 KUSAKA Yu; JP
谷中 優 YANAKA Yu; JP
芹川 滋 SERIKAWA Shigeru; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区八丁堀二丁目7番1号 7-1, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032, JP
優先権情報:
2010-07849430.03.2010JP
発明の名称: (EN) PATTERNED MEDIA DEFECT INSPECTOR DEVICE AND INSPECTION METHOD FOR STAMPER FOR PATTERNED MEDIA EMPLOYING SAME
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION DE DÉFAUT DE SUPPORT À MOTIFS ET PROCÉDÉ D'INSPECTION POUR MATRICE POUR SUPPORT À MOTIFS L'EMPLOYANT
(JA) パターンドメディアの欠陥検査装置及びそれを用いたパターンドメディア用スタンパの検査方法
要約:
(EN) Disclosed is a method for inspection for a stamper for patterned media, which detects problems with a stamper for transferring a finely detailed pattern to photoresist coated upon a sample, in order to classify defects occurring repeatedly in patterned media discs into defects arising from deteriorations from changes over time in the stamper and defects arising from process problems, and to detect defects arising from changes over time in the stamper. The finely detailed pattern of the stamper is transferred upon the photoresist film coated upon the obverse face of the sample, and light is projected thereupon. The reflected light from the sample whereupon the light is projected is spectrally detected, defects are extracted from a detection waveform obtained by the spectral detection, and a discrimination is made, concerning defects occurring in the same location upon a plurality of samples from among the extracted defects, between the defects caused by the stamper and the defects caused by the process of forming the photoresist film pattern. When the number of defects caused by the stamper exceeds a preset number, an alert is issued.
(FR) L'invention porte sur un procédé d'inspection pour une matrice pour support à motifs, qui détecte des problèmes avec une matrice pour transférer un motif finement détaillé à un photorésist revêtant un échantillon, de façon à classifier des défauts se produisant de façon répétée dans des disques supports à motifs en défauts provenant de détériorations issues de modifications au cours du temps dans la matrice et en défauts provenant de problèmes de traitement, et à détecter des défauts provenant de modifications au cours du temps dans la matrice. Le motif finement détaillé de la matrice est transféré sur le film de photorésist revêtant la face recto de l'échantillon, et de la lumière est projetée dessus. La lumière réfléchie par l'échantillon sur lequel la lumière est projetée est spectralement détectée, des défauts sont extraits d'une forme d'ondes de détection obtenue par la détection spectrale, et une discrimination est effectuée, concernant des défauts apparaissant à la même position sur une pluralité d'échantillons parmi les défauts extraits, entre les défauts provoqués par la matrice et les défauts provoqués par le traitement de formation du motif de film de photorésist. Lorsque le nombre de défauts provoqués par la matrice dépasse un nombre prédéfini, une alerte est envoyée.
(JA)  パターンドメディアディスク上に繰り返し発生した欠陥をスタンパの経時的変化による劣化により発生した欠陥と、プロセスの不良により発生した欠陥とを識別して、スタンパの経時変化により発生した欠陥を検出できるようにするために、試料上に塗布されたレジストに微細なパターンを転写するためのスタンパの不良を検出するパターンドメディア用スタンパの検査方法において、表面に塗布されたレジスト膜にスタンパの微細なパターンが転写された試料に光を照射し、光が照射された試料からの反射光を分光検出し、分光検出して得た検出波形から欠陥を抽出し、抽出した欠陥のうち複数の試料上の同じ位置に発生した欠陥についてスタンパに起因する欠陥と、レジスト膜のパターンを形成するプロセスに起因する欠陥とを弁別し、スタンパに起因する欠陥の個数が予め設定した個数を超えたときに警告を通知するようにした。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)