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1. (WO2011121922) 透明導電膜付きガラス板およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/121922 国際出願番号: PCT/JP2011/001575
国際公開日: 06.10.2011 国際出願日: 17.03.2011
IPC:
B32B 17/06 (2006.01) ,C03C 17/34 (2006.01) ,C23C 16/40 (2006.01) ,H01B 5/14 (2006.01) ,H01B 13/00 (2006.01) ,H01L 31/04 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
17
本質的にシートガラス,またはガラス,スラグまたは類似の繊維からなる積層体
06
層の主なまたは唯一の構成要素がガラスからなり,特定物質の他の層に隣接したもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34
組成の異る少くとも2種の被覆を有するもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22
金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30
化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
40
酸化物
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5
形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14
絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
13
導体またはケーブルを製造するために特に使用する装置または方法
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04
変換装置として使用されるもの
出願人:
日本板硝子株式会社 Nippon Sheet Glass Company, Limited [JP/JP]; 東京都港区三田三丁目5番27号 5-27, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1086321, JP (AllExceptUS)
田中智 TANAKA, Satoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
瀬戸康徳 SETO, Yasunori [JP/JP]; JP (UsOnly)
大谷強 OTANI, Tsuyoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
平田昌宏 HIRATA, Masahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
田中智 TANAKA, Satoshi; JP
瀬戸康徳 SETO, Yasunori; JP
大谷強 OTANI, Tsuyoshi; JP
平田昌宏 HIRATA, Masahiro; JP
代理人:
鎌田耕一 KAMADA, Koichi; 大阪府大阪市北区西天満4丁目3番25号梅田プラザビル別館8階 8th Fl., UMEDA PLAZA BLDG. ANNEX, 4-3-25, Nishitenma, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047, JP
優先権情報:
2010-08384731.03.2010JP
発明の名称: (EN) GLASS PLATE PROVIDED WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE GLASS PLATE
(FR) PLAQUE DE VERRE COMPORTANT UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT ET PROCÉDÉ POUR FABRIQUER LA PLAQUE DE VERRE
(JA) 透明導電膜付きガラス板およびその製造方法
要約:
(EN) Disclosed is a glass plate provided with a transparent conductive film, wherein an increase of the roughness of the surface can be suppressed, even if the haze rate of the transparent conductive film is increased. The glass plate provided with the transparent conductive film is provided with the glass plate, and the transparent conductive film formed on the glass plate. The transparent conductive film has a transparent conductive layer (transparent conductive layer (A)), and a transparent conductive layer (transparent conductive layer (B)), the transparent conductive layer (B) is formed on the transparent conductive layer (A), the transparent conductive film includes a plurality of holes, and each of the holes is formed by having the transparent conductive layer (B) cover a recessed section in the surface of the transparent conductive layer (A).
(FR) L'invention porte sur une plaque de verre comportant un film conducteur transparent, dans laquelle une augmentation de la rugosité de la surface peut être supprimée, même si le taux de voile du film conducteur transparent est accru. La plaque de verre comportant le film conducteur transparent comporte la plaque de verre et le film conducteur transparent formé sur la plaque de verre. Le film conducteur transparent comporte une couche conductrice transparente (couche conductrice transparente (A)), et une couche conductrice transparente (couche conductrice transparente (B)), la couche conductrice transparente (B) étant formée sur la couche conductrice transparente (A), le film conducteur transparent comprend une pluralité de trous, et chacun des trous est formé par le fait que la couche conductrice transparente (B) couvre une section en creux dans la surface de la couche conductrice transparente (A).
(JA)  本発明は、透明導電膜のヘイズ率を高くしても、その表面の表面粗さの上昇を抑制できる透明導電膜付きガラス板を提供する。この透明導電膜付きガラス板は、ガラス板と、ガラス板上に形成された透明導電膜と、を備え、透明導電膜が透明導電層(透明導電層A)と透明導電層(透明導電層B)を有し、透明導電層Bが透明導電層Aの上に形成され、透明導電膜が複数の空孔を含み、複数の空孔の各々が、透明導電層Aの表面における凹部を透明導電層Bが塞いだものである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)