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1. (WO2011121913) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/121913 国際出願番号: PCT/JP2011/001498
国際公開日: 06.10.2011 国際出願日: 15.03.2011
IPC:
G11B 5/84 (2006.01) ,B24B 1/00 (2006.01) ,B24B 37/00 (2006.01)
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
1
研削方法または研磨方法;その方法と関連づけられた補助装置の使用(特別の機械または装置の利用によって特徴づけられた方法は,その機械または装置の関連分類を参照)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
出願人:
コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Konica Minolta Advanced Layers, Inc. [JP/JP]; 東京都八王子市石川町2970番地 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505, JP (AllExceptUS)
中江 葉月 NAKAE, Hazuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
中江 葉月 NAKAE, Hazuki; JP
代理人:
小谷 悦司 KOTANI, Etsuji; 大阪府大阪市北区中之島2丁目2番2号大阪中之島ビル2階 Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
優先権情報:
2010-07532529.03.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
要約:
(EN) When repeatedly using colloidal silica as a polishing material when subjecting a glass material to precision polishing, a limitation on the frequency in which the colloidal silica can be repeatedly used is removed by preventing the colloidal silica from gelling, thereby dramatically increasing productivity. Disclosed is a method for producing a glass substrate for an information recording medium, which involves a precision polishing step in which a glass material, which has 0.5ng/cm2 or less of iron attached to the surface and a surface roughness (Ra) of 1nm or less, is subjected to precision polishing under acidic conditions using a polishing material containing colloidal silica. Also disclosed is a glass substrate for an information recording medium which is produced by means of the aforementioned method for producing a glass substrate for an information recording medium.
(FR) Lors de l'utilisation répétée de silice colloïdale comme matériau de polissage lorsqu'on soumet un matériau de verre à un polissage de précision, la limitation imposée à la fréquence à laquelle la silice colloïdale peut être utilisée de manière répétée est éliminée en empêchant la silice colloïdale de se gélifier, cela améliorant de manière spectaculaire la productivité. L'invention concerne un procédé de production d'un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations faisant intervenir une étape de polissage de précision lors de laquelle un matériau de verre, dans lequel 0,5 ng/cm2 ou moins de fer est fixé à la surface et ayant une rugosité de surface (Ra) de 1 nm ou moins, est soumis à un polissage de précision dans des conditions acides en utilisant un matériau de polissage contenant de la silice colloïdale. L'invention décrit également un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations qui est produit par le procédé mentionné ci-dessus afin de produire un substrat de verre pour support d'enregistrement d'informations.
(JA)  ガラス素材を精密研磨加工する際に、コロイダルシリカを研磨材として循環使用するに当たり、コロイダルシリカがゲル化することを防止して循環使用できる回数が制限されることを防ぎ、もって生産性を格段に高めることを目的とする。 表面に付着している鉄分が0.5ng/cm2以下であって、表面粗さRaが1nm以下であるガラス素材にコロイダルシリカを含む研磨材を用いて、酸性条件下で精密研磨する精密研磨工程を備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。また、前記の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって製造された情報記録媒体用ガラス基板。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130023185JPWO2011121913