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1. (WO2011121903) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/121903 国際出願番号: PCT/JP2011/001410
国際公開日: 06.10.2011 国際出願日: 10.03.2011
IPC:
B24B 1/00 (2006.01) ,B24B 37/00 (2006.01) ,C03C 3/083 (2006.01) ,G11B 5/84 (2006.01)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
1
研削方法または研磨方法;その方法と関連づけられた補助装置の使用(特別の機械または装置の利用によって特徴づけられた方法は,その機械または装置の関連分類を参照)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3
ガラスの組成物
04
シリカを含むもの
076
重量比で40%から90%シリカを有するもの
083
酸化アルミニウムまたは鉄化合物を含むもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
出願人:
コニカミノルタアドバンストレイヤー株式会社 Konica Minolta Advanced Layers, Inc. [JP/JP]; 東京都八王子市石川町2970番地 2970, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928505, JP (AllExceptUS)
中江 葉月 NAKAE, Hazuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
中江 葉月 NAKAE, Hazuki; JP
代理人:
小谷 悦司 KOTANI, Etsuji; 大阪府大阪市北区中之島2丁目2番2号大阪中之島ビル2階 Osaka Nakanoshima Building 2nd Floor, 2-2, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005, JP
優先権情報:
2010-07532429.03.2010JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT DE VERRE POUR SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
要約:
(EN) When repeatedly using colloidal silica as a polishing material when subjecting a glass material containing cerium oxide in the composition thereof to precision polishing, a limitation on the frequency in which the colloidal silica can be repeatedly used is removed, thereby being able to dramatically increase productivity. Disclosed is a method for producing a glass substrate for an information recording medium, which involves: a rough polishing step in which a glass material containing 0.01 to 2 mass% of cerium oxide is roughly polished; a washing step in which the glass material after being subjected to the rough polishing step is washed so that the cerium content at the surface of the glass material is reduced to 0.125ng/cm3 or less; and a precision polishing step in which the glass material after being subjected to the washing step is subjected to precision polishing by repeatedly using a polishing material containing colloidal silica.
(FR) Lorsqu'on utilise de façon répétée de la silice colloïdale comme matériau de polissage pour soumettre du verre contenant de l'oxyde de cérium dans sa composition à un polissage de précision, la limitation de la fréquence à laquelle la silice colloïdale peut être utilisée de façon répétée est supprimée, ce qui permet d'augmenter considérablement la productivité. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de verre pour un support d'enregistrement d'informations qui comprend : une étape de polissage grossier dans laquelle du verre contenant 0,01 à 2 % en masse d'oxyde de cérium est poli de façon grossière ; une étape de lavage dans laquelle le verre après l'étape de polissage grossier est lavé pour que la teneur en cérium à la surface du verre soit réduite à 0,125 ng/cm3 ou moins ; et une étape de polissage de précision dans laquelle le verre après l'étape de lavage est soumis à un polissage de précision en utilisant de façon répétée un matériau de polissage contenant de la silice colloïdale.
(JA)  酸化セリウムを組成に含むガラス素材を精密研磨加工する際に、コロイダルシリカを研磨材として循環使用するに当たり、循環使用できる回数が制限されることを防ぎ、もって生産性を格段に高めること。 酸化セリウムを0.01~2質量%含有するガラス素材を粗研磨する粗研磨工程と、前記ガラス素材表面のセリウム量が0.125ng/cm以下となるように前記粗研磨工程後のガラス素材を洗浄する洗浄工程と、コロイダルシリカを含む研磨材を循環使用して前記洗浄工程後のガラス素材を精密研磨する精密研磨工程と、を備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130029099JPWO2011121903