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1. (WO2011121738) 半導体装置およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2011/121738 国際出願番号: PCT/JP2010/055739
国際公開日: 06.10.2011 国際出願日: 30.03.2010
IPC:
H01L 21/8244 (2006.01) ,H01L 27/11 (2006.01) ,H01L 29/78 (2006.01) ,H01L 29/786 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
70
1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
77
1つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理
78
複数の別個の装置に基板を分割することによるもの
82
それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造
822
基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの
8232
電界効果技術
8234
MIS技術
8239
メモリ構造
8244
スタティックランダムアクセスメモリ構造(SRAM)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02
整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04
基板が半導体本体であるもの
10
複数の個々の構成部品を反復した形で含むもの
105
電界効果構成部品を含むもの
11
スタティックランダムアクセスメモリ構造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
786
薄膜トランジスタ
出願人:
ルネサスエレクトロニクス株式会社 Renesas Electronics Corporation [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区下沼部1753番地 1753, Shimonumabe, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2118668, JP (AllExceptUS)
時田 裕文 TOKITA, Hirofumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
時田 裕文 TOKITA, Hirofumi; JP
代理人:
筒井 大和 TSUTSUI, Yamato; 東京都新宿区新宿2丁目3番10号 新宿御苑ビル3階 筒井国際特許事務所 Tsutsui & Associates, 3F Shinjuku Gyoen Bldg., 3-10, Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) 半導体装置およびその製造方法
要約:
(EN) Disclosed is an n-channel HK/MG transistor, which has a gate insulating film composed of a first high dielectric material film containing La and Hf, and a gate electrode composed of a laminated film composed of a metal film and a polycrystalline Si film, and which is formed in an active region surrounded by an element isolating section composed of an insulating film formed on the main surface of a semiconductor substrate, said insulating film containing oxygen atoms. Under the gate electrode formed over the element isolating section, a Hf-containing second high dielectric material film, which contains La less than that contained in the first dielectric material film, is formed instead of the first high dielectric material film.
(FR) L'invention concerne un transistor HK/MG à canal n, qui possède un film d'isolation de grille composé d'un premier film de matériau fortement diélectrique contenant La et Hf et une électrode de grille composée d'un film stratifié formé d'un film métallique et d'un film de Si polycristallin et formé dans une région active entourée d'une section d'isolation d'élément composée d'un film isolant formé sur la surface principale d'un substrat semi-conducteur, ledit film isolant contenant des atomes d'oxygène. Sous l'électrode de grille formée sur la section d'isolation d'élément, on forme un second film de matériau fortement diélectrique contenant du Hf, qui contient moins de La que le premier film de matériau diélectrique, à la place du premier film de matériau fortement diélectrique.
(JA)  LaとHfとを含む第1高誘電体膜からなるゲート絶縁膜、および金属膜と多結晶Si膜との積層膜からなるゲート電極を有し、半導体基板の主面に形成された酸素原子を含む絶縁膜からなる素子分離部に囲まれた活性領域に形成されたnチャネル型HK/MGトランジスタにおいて、素子分離部に乗り上げた上記ゲート電極の下には、第1高誘電体膜に代えて、第1高誘電体膜よりもLaの含有量が少ないHfを含む第2高誘電体膜を形成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20130021840JPWO2011121738CN102822959