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1. (WO2011118785) シリコン配線埋込ガラス基板及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118785    国際出願番号:    PCT/JP2011/057399
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 25.03.2011
IPC:
H01L 23/15 (2006.01), G01P 15/08 (2006.01), G01P 15/125 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKUMURA, Shin [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAURA, Takumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKATANI, Tomohiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OKUMURA, Shin; (JP).
TAURA, Takumi; (JP).
NAKATANI, Tomohiro; (JP)
代理人: TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
優先権情報:
2010-071469 26.03.2010 JP
発明の名称: (EN) GLASS SUBSTRATE HAVING SILICON WIRING EMBEDDED THEREIN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE GLASS SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT EN VERRE À CÂBLAGE DE SILICIUM INCORPORÉ ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU SUBSTRAT EN VERRE
(JA) シリコン配線埋込ガラス基板及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a glass substrate having silicon wiring embedded therein, wherein the area from which the silicon wiring is to be led out can be discretionary set. Also disclosed is a method for manufacturing such glass substrate. The glass substrate having the silicon wiring embedded therein has a first main surface and a second main surface, which face each other, and side surfaces, and the substrate is provided with a glass base section and the silicon wiring embedded in the glass base section. The silicon wiring is provided with: a first lead out portion exposed from the first main surface; a second lead out portion exposed from the first main surface or the second main surface or one of the side surfaces; and a connecting section that connects between the first lead out portion and the second lead out portion. The first lead out portion and the second lead out portion are disposed at different positions when viewed from the normal line direction of the first main surface.
(FR)La présente invention concerne un substrat en verre à câblage de silicium incorporé, dans lequel la zone depuis laquelle la sortie du câblage de silicium peut être réalisée est établie au choix. L'invention concerne également un procédé pour la fabrication d'un tel substrat en verre. Le substrat en verre à câblage de silicium incorporé présente une première surface principale et une seconde surface principale, se faisant face mutuellement, et des surfaces latérales, et le substrat est muni d'une section de base en verre et du câblage de silicium incorporé dans la section de base en verre. Le câblage de silicium est muni: d'une première partie de sortie exposée depuis la première surface principale ; d'une seconde partie de sortie exposée depuis la seconde surface principale ou une des surfaces latérales ; et une section de connexion qui assure la connexion entre la première partie de sortie et la seconde partie de sortie. La première partie de sortie et la seconde partie de sortie sont disposées à des positions différentes vues depuis la direction de ligne normale de la première surface principale.
(JA) シリコン配線の引き出し箇所を任意に設定できるシリコン配線埋込ガラス基板及びその製造方法を提供する。 そのシリコン配線埋込ガラス基板は、対向する第1の主面及び第2の主面と側面とを有するシリコン配線埋込ガラス基板であって、ガラスベース部と、ガラスベース部の内部に埋設されたシリコン配線と、を備え、シリコン配線は、第1の主面に露出する第1の引出部と、第1の主面、前記第2の主面或いは前記側面のいずれか1つの面に露出する第2の引出部と、第1の引出部及び前記第2の引出部間を接続する接続部と、を備え、第1の引出部及び前記第2の引出部は、前記第1の主面の法線方向からみて異なる位置に配置されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)