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1. (WO2011118619) フィルム表面処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118619    国際出願番号:    PCT/JP2011/056950
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 23.03.2011
IPC:
C08J 7/00 (2006.01)
出願人: SEKISUI CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 4-4, Nishitemma 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308565 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SATOH Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NOGAMI Mitsuhide [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO Yoshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWASAKI Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SATOH Takashi; (JP).
NOGAMI Mitsuhide; (JP).
NAKANO Yoshinori; (JP).
KAWASAKI Shinichi; (JP)
代理人: WATANABE Noboru; 3rd Floor, Gobancho KU Building, 10 Gobancho, Chiyoda-ku Tokyo 1020076 (JP)
優先権情報:
2010-068747 24.03.2010 JP
発明の名称: (EN) FILM SURFACE TREATMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DES FILMS
(JA) フィルム表面処理装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a film surface treatment apparatus that sufficiently reacts reaction components and prevents contamination from adhering to electrodes during surface treatment of a film that is being treated by activation of a reaction gas containing the reaction components. A film (9) that is being treated is a wound over a first roll electrode (11) and a second roll electrode (12) in a main treatment section (10). The film (9) that is being treated is fed from the electrode (11) to the electrode (12) by rotation of the roll electrodes (11, 12). The reaction gas is blown onto the film (9) from a nozzle (23) on the upstream side in the direction of feed from a main discharge space (19) between the electrodes (11, 12) or in the discharge space (19). A reactivation section (30) is provided downstream in the direction of feed from the main treatment section (10). Preferably, the later stage electrode (31) of the reactivation section (30) faces the second roll electrode (12), and the second roll electrode (12) is also used as another later stage electrode for the reactivation section (30). Discharge producing gas not containing reaction components is supplied between the electrodes (31, 12) by a gas supply section (33).
(FR)L'appareil pour le traitement de surface des films selon l'invention fait suffisamment réagir les composants réactionnels et empêche la contamination d'adhérer aux électrodes pendant le traitement de surface d'un film en cours de traitement par activation d'un gaz réactionnel contenant les composants réactionnels. Un film (9) en cours de traitement est sous la forme d'un enroulement autour d'une première électrode rouleau (11) et d'une seconde électrode rouleau (12) dans une section de traitement principal (10). Le film (9) en cours de traitement est déplacé de l'électrode (11) à l'électrode (12) par rotation des électrodes rouleaux (11, 12). Le gaz réactionnel est insufflé sur le film (9) à partir d'une buse (23) qui se trouve côté amont dans le sens du déplacement par rapport à un espace de décharge principal (19) qui se trouve entre les électrodes (11, 12) ou dans l'espace de décharge (19). Une section de réactivation (30) est prévue en aval dans le sens du déplacement par rapport à la section de traitement principal (10). De préférence, l'électrode de dernier étage (31) de la section de réactivation (30) est en regard de la seconde électrode rouleau (12), et la seconde électrode rouleau (12) est également utilisée comme autre électrode de dernier étage pour la section de réactivation (30). Le gaz produisant la décharge et qui ne contient pas de composants réactionnels est injecté entre les électrodes (31, 12) par une section d'alimentation en gaz (33).
(JA) 反応成分を含む反応ガスを活性化させて被処理フィルムを表面処理する際、反応成分を十分に反応させ、かつ電極に汚れが付着するのを防止する。 主処理部10の第1ロール電極11及び第2ロール電極12に被処理フィルム9を掛け回す。ロール電極11,12の回転により被処理フィルム9を電極11から電極12へ搬送する。電極11,12間の主放電空間19より搬送方向の上流側又は放電空間19内のフィルム19にノズル23から反応ガスを吹き付ける。主処理部10より搬送方向の下流に再活性化部30を設ける。好ましくは、再活性化部30の後段電極31を第2ロール電極12と対向させ、第2ロール電極12を再活性化部30の他方の後段電極として兼用する。反応成分を含まない放電生成ガスをガス供給部33から電極31,12間に供給する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)