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1. (WO2011118547) ガラス基板の製造方法及びガラス基板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118547    国際出願番号:    PCT/JP2011/056700
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 22.03.2011
IPC:
C03B 17/06 (2006.01), C03C 3/091 (2006.01)
出願人: NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAWAGUCHI Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUJIWARA Katsutoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATO Yoshinari [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AIBA Hisatoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAWAGUCHI Takahiro; (JP).
FUJIWARA Katsutoshi; (JP).
KATO Yoshinari; (JP).
AIBA Hisatoshi; (JP)
代理人: NAITO Teruo; Shin-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 8F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2010-065568 23.03.2010 JP
2011-049763 08.03.2011 JP
発明の名称: (EN) GLASS SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT EN VERRE ET SUBSTRAT EN VERRE
(JA) ガラス基板の製造方法及びガラス基板
要約: front page image
(EN)Disclosed is a manufacturing method of 100μm or thinner glass substrates which have the quality required of substrates on which thin film circuits are formed; also disclosed is the thin glass substrate manufactured according to that method. The method for manufacturing glass substrates between 10 and 200μm thick involves a formation step for forming molten glass into a ribbon form by the downdraw method, a slow cooling step for slowly cooling the glass ribbon, and a cutting step for cutting the glass ribbon. In the temperature range of (slow cooling point + 200C) to (slow cooling point + 50C), the average cooling speed is adjusted to the range of 300-2500 C/minute.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication de substrats en verre de 100 μm ou plus fins qui présentent la qualité requise des substrats sur lesquels des circuits en couches minces sont formés ; l'invention concerne également le substrat en verre fin fabriqué selon ce procédé. Le procédé de fabrication de substrats en verre entre 10 et 200 μm d'épaisseur implique une étape de formation pour former le verre fondu en rubans par le procédé d'étirage vers le bas, une étape de refroidissement lent permettant de refroidir lentement le ruban de verre, et une étape de découpe permettant de découper le ruban de verre. Dans la plage de températures de (point de refroidissement lent + 200 °C) à (point de refroidissement lent + 50 °C), la vitesse moyenne de refroidissement est réglée dans la plage 300-2500 C/minute.
(JA) 本発明は、薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす100μm以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供することを目的とする。 本発明は板厚が10~200μmのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、(徐冷点+200℃)~(徐冷点+50℃)の温度範囲における平均冷却速度を300~2500℃/分の範囲に調節することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)