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1. (WO2011118373) 電気化学表示素子
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118373    国際出願番号:    PCT/JP2011/055212
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 07.03.2011
IPC:
G02F 1/19 (2006.01), G02F 1/17 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
出願人: Konica Minolta Holdings, Inc. [JP/JP]; 1-6-1, Marunouchi, Chiyoda-Ku, Tokyo 1000005 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IZUMI Tomoo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IZUMI Tomoo; (JP)
代理人: SANO Shizuo; Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan, 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5400032 (JP)
優先権情報:
2010-067410 24.03.2010 JP
発明の名称: (EN) ELECTROCHEMICAL DISPLAY ELEMENT
(FR) ELÉMENT D'AFFICHAGE ÉLECTROLYTIQUE
(JA) 電気化学表示素子
要約: front page image
(EN)A substrate (20) on the non-observation side of a display element (1) is provided with a metal wiring (23) for supplying the current from a power bus (VDD) to a pixel electrode (25) via a thin-film transistor (Q2), and an inter-layer insulating film (24) which is formed so as to cover the thin-film transistor (Q2) and the metal wiring (23). The pixel electrode (25) is configured from a material having the same ionization tendencies as the deposition material within an electrolyte solution (30) or a higher ionization tendency than said deposition material, and is formed on the inter-layer insulating film (24). Moreover, the pixel electrode (25) is connected to the metal wiring (23) via a contact hole (24a). The substrate (20) is also provided with an insulating film (26) which is formed on the pixel electrode (25) so as to cover the contact hole (24a).
(FR)Un substrat (20) situé sur le côté de non-observation d'un élément d'affichage (1) est muni d'un câblage métallique (23) qui apporte le courant provenant d'un bus d'alimentation (VDD) à une électrode de pixel (25) par l'intermédiaire d'un transistor à couches minces (Q2), et muni d'une pellicule isolante intermédiaire (24) conçue de manière à couvrir le transistor à couches minces (Q2) et le câblage métallique (23). L'électrode de pixel (25) est fabriquée à partir d'un matériau ayant les mêmes tendances à l'ionisation que le matériau de déposition dans une solution électrolytique (30), ou une plus grande tendance à l'ionisation que ledit matériau de déposition, et elle se trouve sur la pellicule isolante intermédiaire (24). De plus, l'électrode de pixel (25) est connectée au câblage métallique (23) par le biais d'une fenêtre de contact (24a). Le substrat (20) est également doté d'une pellicule isolante (26) formée sur l'électrode de pixel (25) de façon à couvrir la fenêtre de contact (24a).
(JA) 表示素子(1)の非観察側の基板(20)は、電源バス(VDD)からの電流を薄膜トランジスタ(Q2)を介して画素電極(25)に供給するための金属配線(23)と、薄膜トランジスタ(Q2)および金属配線(23)を覆うように形成される層間絶縁膜(24)とを有している。画素電極(25)は、電解液(30)中のデポジション材料とイオン化傾向が同等か、イオン化傾向の大きい材料で構成され、層間絶縁膜(24)上に形成される。また、画素電極(25)は、コンタクトホール(24a)を介して金属配線(23)と接続される。基板(20)は、さらに、コンタクトホール(24a)を覆うように画素電極(25)上に形成される絶縁膜(26)を有している。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)