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1. (WO2011118346) 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118346    国際出願番号:    PCT/JP2011/054733
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 02.03.2011
IPC:
H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIRAKAWA, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HIRAKAWA, Osamu; (JP)
代理人: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Kakubari Building, 1-20, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
優先権情報:
2010-066276 23.03.2010 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, PROGRAM, AND COMPUTER RECORDING MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROGRAMME, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT INFORMATIQUE
(JA) 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
要約: front page image
(EN)The disclosed substrate processing device has: an upper vessel and a lower vessel that can move relative to one another and that together become a single piece that forms a processing space; a substrate holding unit that is provided within the lower vessel and that carries and holds a substrate; and a delivery arm provided with a supporting member that extends from the lower surface of the upper vessel vertically downwards, and a delivery member that is supported by the supporting member, holds the outer periphery of the substrate, and delivers the substrate to and from the substrate holding unit. The delivery arm can, along with the upper vessel, move relatively in the vertical direction with respect to the lower vessel, and a notched groove that can accept the delivery member is formed to the outer periphery of the substrate holding unit at a position corresponding to the delivery member.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de traitement de substrat, comportant : une cuve supérieure et une cuve inférieure, pouvant se déplacer l'une par rapport à l'autre et pouvant former ensemble une pièce unique formant un espace de traitement ; une unité de tenue de substrat, située dans la cuve inférieure, transportant et tenant un substrat ; et un bras de distribution, comprenant un élément de support s'étendant verticalement et vers le bas depuis la surface inférieure de la cuve supérieure, et un élément de distribution supporté par l'élément de support, qui retient la périphérie externe du substrat et qui distribue le substrat vers et depuis l'unité de retenue de substrat. Le bras de distribution peut, en même temps que la cuve supérieure, se déplacer relativement dans le sens vertical par rapport à la cuve inférieure, et une rainure crantée pouvant accepter l'élément de distribution est formée à la périphérie externe de l'unité de tenue de substrat sur une position correspondant à l'élément de distribution.
(JA) 本発明は、相対的移動が可能で、かつ両者が一体となって処理空間を形成する上部容器及び下部容器と、下部容器内に設けられ、基板を載置して保持する基板保持部と、上部容器の下面から鉛直下方に延伸する支持部材と、支持部材に支持され、基板の外周部を保持すると共に基板保持部との間で基板の受け渡しを行う受渡部材と備えた受渡アームとを有し、受渡アームは上部容器と共に下部容器に対して鉛直方向に相対的に移動自在であって、基板保持部の外周部には、受渡部材に対応する位置に受渡部材を収容可能な切欠き溝が形成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)