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1. (WO2011118190) 検体処理システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118190    国際出願番号:    PCT/JP2011/001644
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 18.03.2011
IPC:
G01N 35/02 (2006.01)
出願人: SYSMEX CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Wakinohama-Kaigandori 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6510073 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKAI, Kei; (米国のみ).
KITAGAWA, Nobuhiro; (米国のみ)
発明者: TAKAI, Kei; .
KITAGAWA, Nobuhiro;
代理人: OGASAWARA PATENT OFFICE; Daido-Seimei Esaka Bldg., 13th Floor, 1-23-101, Esakacho, Suita-shi, Osaka 5640063 (JP)
優先権情報:
2010-073027 26.03.2010 JP
発明の名称: (EN) SPECIMEN TREATMENT SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT D'UN ÉCHANTILLON
(JA) 検体処理システム
要約: front page image
(EN)Provided is a specimen treatment system which has a greater flexibility in installation sites. A protruding part (2k) (protruding part (3k)) which protrudes downward is fixed to a bottom face (2f) (bottom face (3f)) of a first measuring unit (2) (a second measuring unit (3)) to be mounted on a mounting base (26) (mounting base (36)). A guide aperture (28) (guide aperture (38) is formed on an upper plate (26e) (upper plate (36e)) of the mounting base (26) (mounting base (36)), such that the protruding part (2k) (protruding part (3k)) fits therethrough rotatably in the horizontal direction while movement thereof in the horizontal direction is restricted.
(FR)L'invention concerne un système de traitement d'un échantillon qui présente une plus grande souplesse sur les sites d'installation. Un élément en saillie (2k) (élément en saillie (3k)) qui fait saillie vers le bas est fixé sur une face inférieure (2f) (face inférieure (3f)) d'une première unité de mesure (2) (une deuxième unité de mesure (3)) à monter sur une base de fixation (26) (base de fixation (36)). Une ouverture de guidage (28) (ouverture de guidage (38) est formée sur une plaque supérieure (26e) (plaque supérieure (36e)) de la base de fixation (26) (base de fixation (36)), de sorte que l'élément en saillie (2k) (élément en saillie (3k)) s'adapte à travers celle-ci de manière à pouvoir effectuer une rotation dans le sens horizontal alors que le mouvement de celui-ci dans le sens horizontal est limité.
(JA) 設置場所の自由度が高い検体処理システムを提供する。載置台26(載置台36)上に載置される第1測定ユニット2(第2測定ユニット3)の底面2f(底面3f)に、下方に突出する突出部2k(突出部3k)を固定する。載置台26(載置台36)の上板26e(上板36e)には、突出部2k(突出部3k)が水平移動を制限された状態で水平方向に回転可能に挿通されるガイド孔28(ガイド孔38)を形成する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)