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1. (WO2011118164) プラズマディスプレイパネルの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118164    国際出願番号:    PCT/JP2011/001573
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 17.03.2011
IPC:
H01J 9/38 (2006.01), H01J 9/02 (2006.01), H01J 11/02 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
GOTOU, Masashi; (米国のみ).
TSUJITA, Takuji; (米国のみ).
KAWARAZAKI, Hideji; (米国のみ).
HORIKAWA, Keiji; (米国のみ).
KOSHIO, Chiharu; (米国のみ).
OKUMURA, Kanako; (米国のみ).
MIURA, Masanori; (米国のみ)
発明者: GOTOU, Masashi; .
TSUJITA, Takuji; .
KAWARAZAKI, Hideji; .
HORIKAWA, Keiji; .
KOSHIO, Chiharu; .
OKUMURA, Kanako; .
MIURA, Masanori;
代理人: NAITO, Hiroki; c/o Panasonic Corporation, 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
優先権情報:
2010-071991 26.03.2010 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN PANNEAU D'AFFICHAGE À PLASMA
(JA) プラズマディスプレイパネルの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a discharge space, and a plasma display panel having a protective layer that faces the discharge space. The protective layer is exposed to organic reducing gas through introduction of gas, which includes organic reducing gas, into the aforementioned discharge space. Next, the organic reducing gas is emitted from the discharge space. Next, discharge gas is enclosed in the discharge space. The protective layer has an underlying film comprising magnesium oxide, and a plurality of metal oxide particles disposed via dispersal on the underlying film. The metal oxide particles contain at least a first metal oxide and a second metal oxide. Furthermore, the metal oxide particles have at least one peak when x-ray diffraction analysis is performed. Said peak lies between a first peak when x-ray diffraction analysis is performed on the first metal oxide, and a second peak when x-ray diffraction analysis is performed on the second metal oxide. The first peak and second peak exhibit the same orientation as that of said peak.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un espace de décharge, et d'un panneau d'affichage à plasma comportant une couche de protection située en face de l'espace de décharge. La couche de protection est exposée à un gaz réducteur organique par introduction d'un gaz qui contient un gaz réducteur organique, dans l'espace de décharge mentionné ci-dessus. Le gaz réducteur organique est ensuite émis depuis l'espace de décharge. Le gaz de décharge est ensuite placé dans l'espace de décharge. La couche de protection présente un film sous-jacent comprenant de l'oxyde de magnésium et une pluralité de particules d'oxyde métallique disposées par dispersion sur le film sous-jacent. Les particules d'oxyde métallique contiennent au moins un premier oxyde métallique et un second oxyde métallique. De plus, les particules d'oxyde métallique présentent au moins un pic obtenu par analyse de diffraction des rayons X. Ledit pic se situe entre un premier pic obtenu par analyse de diffraction des rayons X sur le premier oxyde métallique et un second pic obtenu par analyse de diffraction des rayons X sur le second oxyde métallique. Le premier pic et le second pic présentent la même orientation que ledit pic.
(JA)放電空間と、放電空間に面した保護層を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法である。還元性有機ガスを含むガスを前記放電空間に導入することにより、保護層を還元性有機ガスに曝す。次に、還元性有機ガスを放電空間から排出する。次に、放電ガスを放電空間に封入する。保護層は、酸化マグネシウムからなる下地膜と、下地膜上に分散配置された複数の金属酸化物粒子とを有する。金属酸化物粒子は、少なくとも第1の金属酸化物と第2の金属酸化物とを含む。さらに、金属酸化物粒子は、X線回折分析において少なくとも一つのピークを有する。そのピークは、第1の金属酸化物のX線回折分析における第1のピークと、第2の金属酸化物のX線回折分析における第2のピークと、の間にある。第1のピークおよび第2のピークは、そのピークが示す面方位と同じ面方位を示す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)