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1. (WO2011118152) プラズマディスプレイパネルの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/118152    国際出願番号:    PCT/JP2011/001526
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 16.03.2011
IPC:
H01J 9/02 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKEDA, Eiji; (米国のみ).
TSUJITA, Takuji; (米国のみ).
HASHIMOTO, Jun; (米国のみ).
GOTOU, Masashi; (米国のみ)
発明者: TAKEDA, Eiji; .
TSUJITA, Takuji; .
HASHIMOTO, Jun; .
GOTOU, Masashi;
代理人: NAITO, Hiroki; c/o Panasonic Corporation, 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
優先権情報:
2010-071980 26.03.2010 JP
発明の名称: (EN) MANUFACTURING METHOD FOR PLASMA DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCRAN PLASMA
(JA) プラズマディスプレイパネルの製造方法
要約: front page image
(EN)The disclosed manufacturing method for a plasma display panel, which comprises an underlayer including a metallic oxide, and aggregates distributed on the underlayer, includes the following process. An underlayer is formed on a dielectric layer. Then, a coating layer is formed by coating an organic solvent, in which aggregates are dispersed, on the underlayer. Then, a coating film of the organic solvent is formed on at least the underlayer by drying the coating layer under reduced pressure. Then, the front panel, on which the film has been formed, and a back panel are placed opposite each other. Then, the coating film is evaporated by heating the opposing front panel and back panel, the aggregates are distributed on the underlayer, and the evaporated coating film component is discharged from the discharge space. Then, the front panel, from which the film has been evaporated, and the back panel are sealed together.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un écran plasma qui comprend une sous-couche intégrant un oxyde métallique et des agrégats répartis sur la sous-couche. Une sous-couche est formée sur une couche diélectrique. Puis une couche de revêtement est formée en apposant un solvant organique dans lequel des agrégats sont dispersés sur la sous-couche. Puis, un film de revêtement du solvant organique est formé sur au moins la sous-couche en séchant la couche de revêtement sous une pression réduite. Puis, le panneau avant, sur lequel le film a été formé, et un panneau arrière sont placés en face l'un de l'autre. Ensuite, le film de revêtement est évaporé en chauffant le panneau avant opposé et le panneau arrière, les agrégats sont répartis sur la sous-couche, et le composant du film de revêtement évaporé est libéré depuis l'espace de libération. Puis le panneau avant, à partir duquel le film a été évaporé, et le panneau arrière sont scellés ensemble.
(JA)金属酸化物を含む下地層と、下地層上に分散配置された凝集粒子と、を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法は、以下のプロセスを含む。誘電体層上に下地層を形成する。次に、凝集粒子を分散させた有機溶剤を下地層上に塗布することにより塗布層を形成する。次に、塗布層を減圧乾燥することにより少なくとも下地層上に有機溶剤の被膜を形成する。続けて、被膜が形成された前面板と背面板とを対向配置する。次に、対向配置された前面板と背面板とを加熱することにより被膜を蒸発させ、かつ凝集粒子を下地層上に分散配置し、さらに蒸発した被膜の成分を放電空間から排出する。次に、被膜が蒸発された前面板と記背面板とを封着する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)