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1. (WO2011117945) スパッタリング装置及び電子デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/117945    国際出願番号:    PCT/JP2010/007140
国際公開日: 29.09.2011 国際出願日: 08.12.2010
IPC:
C23C 14/00 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
出願人: CANON ANELVA CORPORATION [JP/JP]; 2-5-1, Kurigi, Asao-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2158550 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAGUCHI, Nobuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MASHIMO, Kimiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAGASAWA, Shinya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAGUCHI, Nobuo; (JP).
MASHIMO, Kimiko; (JP).
NAGASAWA, Shinya; (JP)
代理人: OHTSUKA, Yasunori; 7th Fl., Kioicho Park Bldg., 3-6, Kioicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020094 (JP)
優先権情報:
2010-072126 26.03.2010 JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRONIC DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) スパッタリング装置及び電子デバイスの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a sputtering device which stops the adhesion of deposited film to the exhaust chamber, and which inhibits particle generation. A sputtering device (1) is provided with: a shutter accommodation unit (23) which is removably provided in an exhaust chamber (8), and which accommodates a shutter (19); and shield members (40a, 40b) which cover at least a part of an exhaust outlet of the exhaust chamber (8), and which are formed on at least a part of the surroundings of the opening of the shutter accommodation unit (23).
(FR)La présente invention se rapporte à un dispositif de pulvérisation qui arrête l'adhésion d'un film déposé à la chambre d'échappement, et qui freine la génération de particules. Un dispositif de pulvérisation (1) est pourvu : d'une unité renfermant un obturateur (23) qui est disposée de manière amovible dans une chambre d'échappement (8), et qui renferme un obturateur (19) ; et d'éléments de protection (40a, 40b) qui recouvrent au moins une partie d'un orifice d'échappement de la chambre d'échappement (8), et qui sont formés sur au moins une partie des alentours de l'ouverture de l'unité renfermant un obturateur (23).
(JA) 本発明の課題は、排気チャンバーへの堆積膜付着を防止し、パーティクルの発生を抑制することにある。スパッタリング装置1は、排気チャンバー8内に設けられ、退避状態のシャッター19を収納するとともに、排気チャンバーに取り付け可能なシャッター収納部23と、排気チャンバー8の排気口の少なくとも一部を覆い、シャッター収納部23の開口部の周囲の少なくとも一部に形成されているシールド部材40a、40bと、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)