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1. (WO2011115250) 成膜装置、成膜方法、回転数の最適化方法及び記憶媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/115250    国際出願番号:    PCT/JP2011/056546
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 18.03.2011
IPC:
H01L 21/31 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ITO Shozo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ITO Shozo; (JP)
代理人: KATSUNUMA Hirohito; Kyowa Patent & Law Office, Room 323, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2010-063928 19.03.2010 JP
2010-259567 19.11.2010 JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING DEVICE, FILM FORMING METHOD, ROTATIONAL FREQUENCY OPTIMISATION METHOD, AND STORAGE MEDIUM
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, PROCÉDÉ D'OPTIMISATION DE FRÉQUENCE DE ROTATION ET SUPPORT DE STOCKAGE
(JA) 成膜装置、成膜方法、回転数の最適化方法及び記憶媒体
要約: front page image
(EN)Disclosed is a film forming device which can inhibit a drop in the in-plane uniformity of the film thickness of the film which is formed. The disclosed film forming device (2) which forms a film on an object to be treated (W), is provided with: a treatment container (4); gas supply means (28, 30) comprising gas jetting openings (34A, 36A) which emit jets of gas; a holding means (12) which holds the object to be treated in the treatment container; a drive mechanism (21) which rotates the holding means relative to the gas jetting openings or periodically moves the holding means in relation to said gas jetting openings; and a control means (48) which, when a cycle, wherein a supply period when at least one kind of gas is supplied and a supply-stop period when the gas supply is stopped are carried out once, is repeated a plurality of times, with the number of repetitions of the cycle being P (P being a natural number not less than 2), controls a gas supply initiation position, as seen from the centre of the object to be treated, for P times of each cycle, in a manner such that the position sequentially moves one part at a time in the circumferential direction of the object to be treated, said parts being the circumference once round the object to be treated divided by an arbitrary division number (K) (K=P) of units.
(FR)L'invention concerne un dispositif de formation de film qui peut prévenir une chute de l'uniformité dans le plan de l'épaisseur du film formé. Le dispositif de formation de film (2) selon l'invention, qui forme un film sur un objet à traiter (W), comprend : un contenant de traitement (4); un moyen d'alimentation en gaz (28, 30) comprenant des ouvertures de projection de gaz (34A, 36A) qui émettent des jets de gaz; un moyen de retenue (12) qui retient l'objet à traiter dans le contenant de traitement; un mécanisme d'entraînement (21) qui fait tourner le moyen de retenue par rapport aux ouvertures de projection de gaz ou qui déplace périodiquement le moyen de retenue par rapport auxdites ouvertures de projection de gaz; et un moyen de commande (48) qui, lorsqu'un cycle dans lequel on exécute une fois une période d'alimentation, au cours de laquelle au moins un type de gaz est fourni, et une période d'arrêt de l'alimentation, au cours de laquelle l'alimentation en gaz est arrêtée, est répété une pluralité de fois, le nombre des répétitions du cycle étant P (P étant un nombre naturel qui n'est pas inférieur à 2), commande une position de début de l'alimentation en gaz, observée depuis le centre de l'objet à traiter, pour P fois dans chaque cycle, de manière à ce que la position se déplace séquentiellement d'un pas à chaque fois dans la direction de la circonférence de l'objet à traiter, lesdits pas étant la circonférence de l'objet à traiter, divisée par un diviseur arbitraire (K) (K = P) d'unités.
(JA)[課題]成膜した膜の膜厚の面内均一性の低下を抑制することができる成膜装置を提供する。 [解決手段]被処理体Wに膜を形成する成膜装置2において、処理容器4と、ガスを噴射するガス噴射口34A,36Aを有するガス供給手段28,30と、処理容器内で被処理体を保持する保持手段12と、保持手段をガス噴射口に対して相対的に回転又は周期的に移動させる駆動機構21と、少なくとも1種類以上のガスの供給を行う供給期間と供給の停止を行う供給停止期間とを1回行うサイクルを複数回繰り返す時に、サイクルの繰り返し数をP(Pは2以上の自然数)として被処理体の中心から見て、P回の各サイクル毎におけるガス供給開始位置を、被処理体の1周分の周囲を任意の分割数K(K=P)個に分割した1つ分ずつだけ被処理体の周方向へ順次移動する様に制御する制御手段48とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)