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1. (WO2011115162) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および微細凹凸構造を表面に有する物品
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/115162    国際出願番号:    PCT/JP2011/056187
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 16.03.2011
IPC:
C08F 290/06 (2006.01), G02B 1/11 (2006.01)
出願人: MITSUBISHI RAYON CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008253 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKIHARA Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOJIMA Katsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
UCHIDA Masayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKIHARA Tsuyoshi; (JP).
KOJIMA Katsuhiro; (JP).
UCHIDA Masayuki; (JP)
代理人: SHIGA Masatake; 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 1006620 (JP)
優先権情報:
2010-060906 17.03.2010 JP
発明の名称: (EN) ACTIVE ENERGY RAY CURABLE RESIN COMPOSITION AND ARTICLE HAVING FINELY ROUGHENED STRUCTURE ON SURFACE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POLYMÉRISABLE PAR UN RAYONNEMENT ÉNERGÉTIQUE ACTIF ET ARTICLE AYANT UNE STRUCTURE FINEMENT RUGUEUSE À LA SURFACE
(JA) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物および微細凹凸構造を表面に有する物品
要約: front page image
(EN)Disclosed is an active energy ray curable resin composition having three or more radical polymerizable functional groups in the molecule, having 50 - 80% by mass of a monomer (A) with a molecular weight of 110 - 200 per functional group and two or more radical polymerizable functional groups in the molecule, and containing a polymerizable component (X), which contains 10 - 50% by mass of a monomer (B) having 11 or more oxyalkylene groups in the molecule and 0 - 20% by mass of a monomer having one radical polymerizable functional group in the molecule, and a photopolymerization initiator (D). The active energy ray curable resin composition can have comparatively low viscosity and can form a cured product with excellent stamper mold releasing properties, high abrasion resistance and excellent fingerprint wiping properties. Also disclosed is an article having a finely roughened structure on the surface and having high abrasion resistance and excellent fingerprint wiping properties.
(FR)L'invention concerne une composition de résine polymérisable par un rayonnement énergétique actif ayant au moins trois groupes fonctionnels radicaux polymérisables dans la molécule, ayant 50 - 80% en poids d'un monomère (A) avec un poids moléculaire de 110 - 200 par groupe fonctionnel et au moins deux groupes fonctionnels radicaux polymérisables dans la molécule, et contenant un composant polymérisable (X) qui contient 10 - 50% en poids d'un monomère (B) ayant au moins 11 groupes oxyalkylène dans la molécule et 0 - 20% en poids d'un monomère ayant un groupe fonctionnel radical polymérisable dans la molécule, et un initiateur de photopolymérisation (D). La composition de résine polymérisable par un rayonnement énergétique actif peut avoir une viscosité comparativement faible et peut former un produit polymérisé avec d'excellentes propriétés de démoulage par matrice de pressage, une forte résistance à l'abrasion et d'excellentes propriétés d'essuyage des empreintes digitales. L'invention concerne également un article ayant une structure finement rugueuse à la surface et ayant une forte résistance à l'abrasion et d'excellentes propriétés d'essuyage des empreintes digitales.
(JA) 本発明は、分子内に3個以上のラジカル重合性の官能基を有し、かつ前記官能基1個あたりの分子量が110~200であるモノマー(A)の50~80質量%と、分子内に2個のラジカル重合性の官能基を有し、かつ分子内に11個以上のオキシアルキレン基を有するモノマー(B)の10~50質量%と、分子内に1個のラジカル重合性の官能基を有するモノマー(C)の0~20質量%とを含む重合性成分(X)と、光重合開始剤(D)とを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に関する。本発明は、粘度を比較的低くでき、スタンパからの離型性が良好で、耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好な硬化物を形成できる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、耐擦傷性が高く、指紋拭き取り性が良好な微細凹凸構造を表面に有する物品を提供することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)