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1. (WO2011115138) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/115138    国際出願番号:    PCT/JP2011/056111
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 15.03.2011
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUDA Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAKAMI Takanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUDA Yasuhiko; (JP).
KAWAKAMI Takanori; (JP)
代理人: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
優先権情報:
2010-061720 17.03.2010 JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RADIATIONS ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF RÉSISTANT
(JA) 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is [A] a radiation-sensitive resin composition comprising an acid generator that generates an organic acid by means of irradiation with radioactive rays, wherein the radiation-sensitive resin composition is characterized in that the organic acid has a cyclic hydrocarbon group and an organic group comprising a bond that produces a polar group by being cleaved by an acid or a base. The abovementioned organic acid is preferably an organic acid represented by formula (I). In formula (I), Z is an organic acid group. R1 is an alkanediyl group. However, a portion or all of the hydrogen atoms in the abovementioned alkanediyl group may be substituted with fluorine atoms. X is a single bond, O, OCO, COO, CO, SO3, or SO2. R2 is a cyclic hydrocarbon group. R3 is a monovalent organic group having a functional group represented by formula (x). n is an integer in the range of 1 to 3. However, in cases in which there is a plurality of R3's, the plurality of R3's may be the same or different.
(FR)L'invention concerne [A] une composition de résine sensible aux radiations comprenant un générateur d'acide qui génère un acide organique par irradiation avec des rayons radioactifs, la composition de résine sensible aux radiations étant caractérisée en ce que l'acide organique comporte un groupe hydrocarbure cyclique et un groupe organique comprenant une liaison qui produit un groupe polaire en étant clivé par un acide ou une base. L'acide organique susmentionné est de préférence un acide organique représenté par la formule (I). Dans la formule (I), Z est un groupe acide organique. R1 est un groupe alcanediyle. Cependant tout ou partie des atomes d'hydrogène du groupe alcanediyle susmentionné peuvent être substitués par des atomes de fluor. X est une liaison simple, O, OCO, COO, CO, SO3, ou SO2. R2 est un groupe hydrocarbure cyclique. R3 est un groupe organique monovalent comportant un groupe fonctionnel représenté par la formule (x). n est un nombre entier compris entre 1 et 3. Cependant, dans les cas où il y a une pluralité de R3, la pluralité de R3 peut être identique ou différente.
(JA) 本発明は、[A]放射線の照射により有機酸を発生する酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、この有機酸が、環状炭化水素基と、酸又は塩基により切断されて極性基を生じる結合を含む有機基とを有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。上記有機酸は、下記式(I)で表される有機酸が好ましい。式(I)中、Zは、有機酸基である。Rは、アルカンジイル基である。但し、上記アルカンジイル基の水素原子の一部又は全部は、フッ素原子で置換されていてもよい。Xは、単結合、O、OCO、COO、CO、SO又はSOである。Rは、環状炭化水素基である。Rは、下記式(x)で表される官能基を有する1価の有機基である。nは、1~3の整数である。但し、Rが複数の場合、複数のRは同一であっても異なっていてもよい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)