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1. (WO2011115131) EUVリソグラフィ光学部材用基材およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/115131    国際出願番号:    PCT/JP2011/056096
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 15.03.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
出願人: Asahi Glass Company, Limited. [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKANISHI Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IKUTA Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKANISHI Hiroshi; (JP).
IKUTA Yoshiaki; (JP)
代理人: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2010-059199 16.03.2010 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL MEMBER BASE MATERIAL FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MATÉRIAU DE BASE D'ÉLÉMENT OPTIQUE DESTINÉ À LA LITHOGRAPHIE PAR EUV, AINSI QUE PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT MATÉRIAU
(JA) EUVリソグラフィ光学部材用基材およびその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing an optical member base material for EUV lithography which involves performing the following steps in the following order: a pre-polishing step for pre-polishing the surface, on which a film is to be formed, of a glass substrate and the rear surface in relation to the aforementioned surface, on which a film is to be formed; a measurement step for measuring the flatness and the maximum plate thickness distribution of the glass substrate; and a correction polishing step for locally polishing only the rear surface of the glass substrate on the basis of the measurement results obtained in the measurement step.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un matériau de base d'élément optique destiné à la lithographie par EUV, comprenant l'exécution des étapes suivantes, dans l'ordre indiqué : une étape de pré-polissage, consistant à pré-polir la surface d'un substrat de verre sur laquelle un film doit être formé, ainsi que la surface postérieure en rapport à ladite surface sur laquelle un film doit être formé; une étape de mesure, consistant à mesurer la planéité et la distribution de l'épaisseur maximale de plaque du substrat de verre; et une étape de polissage de correction, consistant à ne polir localement que la surface postérieure du substrat de verre, sur la base des résultats des mesures réalisées dans l'étape de mesure.
(JA) 本発明は、ガラス基板の成膜面および該成膜面に対する裏面を予備研磨する予備研磨工程、ガラス基板の最大板厚分布と平坦度を測定する測定工程、前記測定工程での測定結果に基づいて前記ガラス基板の裏面のみを局所研磨する修正研磨工程、をこの順に実施して、EUVL光学部材用基材を得る、EUVL光学部材用基材の製造方法に関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)