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1. (WO2011114926) テンプレート処理方法、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/114926    国際出願番号:    PCT/JP2011/055230
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 07.03.2011
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B29C 33/58 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NISHI, Takanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TERADA, Shoichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITANO, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIROSHIRO, Koukichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NISHI, Takanori; (JP).
TERADA, Shoichi; (JP).
KITANO, Takahiro; (JP).
HIROSHIRO, Koukichi; (JP)
代理人: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Kakubari Building, 1-20, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
優先権情報:
2010-058798 16.03.2010 JP
発明の名称: (EN) TEMPLATE PROCESSING METHOD, COMPUTER STORAGE MEDIUM AND TEMPLATE PROCESSING APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE MATRICE, SUPPORT DE STOCKAGE INFORMATIQUE, ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE MATRICE
(JA) テンプレート処理方法、コンピュータ記憶媒体及びテンプレート処理装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a template processing apparatus used for forming a predetermined pattern on a coated film by transferring a transfer pattern onto the coated film formed on a substrate, and that forms a film of a mold-release agent on the template formed with an uneven-shaped transfer pattern on a surface. The mold-release agent film is formed only on a top surface of a convex portion of the transfer pattern. A contact angle of the convex portion upper surface to a coating liquid applied to the template thereafter increases compared to an inner surface of the transfer pattern concave portion, so the coating liquid applied to the template easily flows into the concave portion of the transferred pattern and fills the concave portions of the transfer pattern without gaps.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement de matrice utilisé pour former un motif prédéterminé sur un film de revêtement en transférant un motif de transfert sur le film de revêtement formé sur un substrat, et qui forme un film d'un agent de démoulage sur la matrice avec un motif de transfert de forme irrégulière sur la surface. Le film d'agent de démoulage est formé uniquement sur la surface supérieure des parties convexes du motif de transfert. L'angle de contact de la surface supérieure des parties convexes avec un liquide de revêtement appliqué à la matrice est plus grand que celui de la surface interne des parties concaves du motif de transfert, de sorte que le liquide de revêtement appliqué à la matrice s'écoule facilement dans les parties concaves du motif transféré et les remplit sans laisser d'interstices.
(JA) 本発明は、基板上に形成される塗布膜に転写パターンを転写して当該塗布膜に所定のパターンを形成するために用いられ、かつ表面に凹凸形状の転写パターンが形成されたテンプレートの上に、離型剤を成膜するテンプレート処理装置であり、転写パターンの凸部の上面のみに離型剤を成膜する。凸部上面は、転写パターンの凹部の内面に比べて、その後にテンプレート上に塗布される塗布液に対する接触角が大きくなるから、テンプレート上に塗布された塗布液は、転写パターンの凹部に流入し易くなり、転写パターンの凹部に塗布液が隙間なく充填される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)