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1. (WO2011114628) MEMS素子、およびMEMS素子の製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/114628    国際出願番号:    PCT/JP2011/001051
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 24.02.2011
H03H 9/24 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01), H01L 29/84 (2006.01), H03H 3/007 (2006.01), H03H 9/02 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IWASAKI, Tomohiro; (米国のみ).
ONISHI, Keiji; (米国のみ).
NAKAMURA, Kunihiko; (米国のみ)
発明者: IWASAKI, Tomohiro; .
ONISHI, Keiji; .
NAKAMURA, Kunihiko;
代理人: TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS IMP Building 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
2010-062187 18.03.2010 JP
(JA) MEMS素子、およびMEMS素子の製造方法
要約: front page image
(EN)In a MEMS element having a substrate (1), a sealing membrane (7), a movable portion (3) and an electrode (5) of a beam-like structure having mutually overlapping areas separated by a gap in a direction perpendicular to the surface of the substrate (1), and first and second cavities formed separated by the electrode (5) between the substrate (1) and the sealing membrane (7); wherein a cavity on the side of the movable portion (3) in a direction perpendicular to the substrate surface is assumed to be a first cavity (9) and another cavity is assumed to be a second cavity, an inner side surface (a) of a side wall (A) in contact with the electrode (5) of the first cavity (9) is disposed so as to be more inside, in a direction parallel to the substrate surface, than an inner side surface (b) in contact with the electrode (5) of a side wall (B) of the second cavity (10), so that even if mechanical stress is applied from the outer side of the sealing membrane (7), the movable portion (3) and the electrode (5) do not collide.
(FR)L'invention porte sur un élément de microsystème électromécanique (MEMS) comprenant un substrat (1), une membrane de fermeture (7), une partie mobile (3) et une électrode (5) d'une structure du type poutre comprenant des zones mutuellement chevauchantes séparées par un écartement dans une direction perpendiculaire à la surface du substrat (1), et des première et seconde cavités formées séparées par l'électrode (5) entre le substrat (1) et la membrane de fermeture (7). Une cavité située du côté de la partie mobile (3) dans une direction perpendiculaire à la surface du substrat est supposée être une première cavité (9) et une autre cavité est supposée être une seconde cavité, une surface latérale interne (a) d'une paroi latérale (A) en contact avec l'électrode (5) de la première cavité (9) est agencée de façon à se trouver davantage à l'intérieur, dans une direction parallèle à la surface du substrat qu'une surface latérale interne (b) en contact avec l'électrode (5) d'une paroi latérale (B) de la seconde cavité (10), de sorte que même si une contrainte mécanique est appliquée depuis le côté extérieur de la membrane de fermeture (7), la partie mobile (3) et l'électrode (5) ne se heurtent pas.
(JA) 基板1と、封止薄膜7と、基板1の表面に垂直な方向においてギャップを隔てて互いに重なる領域を有する、梁状構造体の可動部3と電極5と、基板1と封止薄膜7との間に電極5を隔てて形成された第1および第2のキャビティとを有するMEMS素子において、基板表面に垂直な方向において可動部3の側にキャビティを第1のキャビティ9とし、もう一方のキャビティを第2のキャビティとしたときに、第1のキャビティ9の電極5と接する側壁Aの内側表面aを、第2のキャビティ10の側壁Bの電極5と接する内側表面bよりも、基板表面に平行な方向において内側となるように配置して、封止薄膜7の外側から機械的な応力が加わっても、可動部3と電極5とが衝突しないようにする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)