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1. (WO2011114472) ヒアルロン酸の精製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/114472    国際出願番号:    PCT/JP2010/054595
国際公開日: 22.09.2011 国際出願日: 17.03.2010
IPC:
C08B 37/08 (2006.01)
出願人: DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038338 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOHSAKA Masanobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISHIGE Katsumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIOKI Kazutoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TSUJI Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOHSAKA Masanobu; (JP).
ISHIGE Katsumi; (JP).
HIOKI Kazutoshi; (JP).
TSUJI Tsuyoshi; (JP)
代理人: SONODA Yoshitaka; SONODA & KOBAYASHI, 34th Floor, Shinjuku Mitsui Building, 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630434 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) HYALURONIC ACID PURIFICATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'ACIDE HYALURONIQUE
(JA) ヒアルロン酸の精製方法
要約: front page image
(EN)Provided is a simple, high-yield method for purifying hyaluronic acids to a high level of purity on an industrial scale. Specifically provided is a purification method for hyaluronic acids and/or salts thereof, which includes a process in which a hyaluronic acid solution comprising hyaluronic acid and/or salts thereof and impurities is brought into contact with an activated carbon suspension.
(FR)Cette invention concerne un procédé simple et à fort rendement de purification d'acides hyaluroniques avec un degré de pureté élevé et à l'échelon industriel. Plus précisément, il s'agit d'un procédé selon lequel une solution d'acide hyaluronique contenant un acide hyaluronique et ou des sels de cet acide et des impuretés est mis en contact avec une suspension de carbone activé.
(JA)【課題】簡便かつ高収率で高純度のヒアルロン酸類を工業的規模で精製するための方法を提供することを目的とする。 【解決手段】ヒアルロン酸及び/又はその塩と不純物を含むヒアルロン酸類溶液を、活性炭懸濁液と接触させる工程とを含む、ヒアルロン酸及び/又はその塩の精製方法が提供される
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)