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1. (WO2011111798) 透明導電膜形成用基板、透明導電膜付き基板、透明導電膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/111798    国際出願番号:    PCT/JP2011/055702
国際公開日: 15.09.2011 国際出願日: 10.03.2011
IPC:
H01B 13/00 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), B32B 3/14 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YABE, Hiroki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAKI, Takeyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YABE, Hiroki; (JP).
YAMAKI, Takeyuki; (JP)
代理人: NISHIKAWA, Yoshikiyo; Hokuto Patent Attorneys Office, Umeda Square Bldg., 9F., 12-17, Umeda 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001 (JP)
優先権情報:
2010-054897 11.03.2010 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE FOR FORMATION OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, SUBSTRATE HAVING TRASPARENT CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
(FR) SUBSTRAT POUR FORMATION DE FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, SUBSTRAT COMPORTANT CE FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT
(JA) 透明導電膜形成用基板、透明導電膜付き基板、透明導電膜の製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a substrate for the formation of a transparent conductive film which simplifies the formation of a transparent conductive film exhibiting both high conductivity and high transparency. The disclosed substrate for the formation of a transparent conductive film is provided with a substrate, and a plurality of nanoparticles dispersed and deposited on the surface of the substrate. By removing the nanoparticles after coating the surface of the substrate with a conductive material using the nanoparticles as a mask, a film can be formed in which the traces from the removal of the nanoparticles form light-transmitting openings, and the part excluding the openings is a conductive material.
(FR)L'invention concerne un substrat pour la formation d'un film conducteur transparent, qui simplifie la formation d'un film d'un film conducteur transparent possédant une conductivité élevée et une transparence élevée. Le substrat pour la formation d'un film conducteur transparent comprend un substrat et plusieurs nanoparticules dispersées et déposées sur la surface du substrat. En éliminant les nanoparticules après avoir revêtu la surface du substrat d'un matériau conducteur en utilisant les nanoparticules comme masque, il est possible de former un film dans lequel les traces du retrait des nanoparticules forment des ouvertures de transmission de la lumière, la partie autre que les ouvertures consistant un matériau conducteur.
(JA)本発明は、高導電性と高透明性を両立した透明導電膜を簡易に形成することができる透明導電膜形成用基板を提供する。 本発明に係る透明導電膜形成用基板は、基板と、この基板の表面上に分散して配置されて付着している複数のナノ粒子とを備える。ナノ粒子をマスクとして基板の表面に導電材料を被覆した後にナノ粒子を除去することによって、ナノ粒子の除去跡が光が透過する開口部となると共にこの開口部以外の部分に導電材料の膜を形成することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)