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1. (WO2011111479) フォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/111479    国際出願番号:    PCT/JP2011/053117
国際公開日: 15.09.2011 国際出願日: 15.02.2011
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01), G03F 1/00 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: Sharp Kabushiki Kaisha [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIRAKO Takahiro [JP/--]; (米国のみ)
発明者: HIRAKO Takahiro;
代理人: YASUTOMI & Associates; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
優先権情報:
2010-056578 12.03.2010 JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL
(FR) MASQUE PHOTOGRAPHIQUE, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) フォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法
要約: front page image
(EN)Provided are a photomask, an exposure device, and a method for producing a liquid crystal display panel, such that it is possible to reduce running cost and the size of a facility. Specifically, disclosed is a photomask used for exposing an alignment film at each exposure region on a substrate surface, wherein the photomask transmits and reflects the light that entered from the main surface of the photomask, irradiates one side of the exposure region with the transmitted light, and irradiates the other side of the exposure region with the reflected light.
(FR)La présente invention se rapporte à un masque photographique, à un dispositif d'exposition et à un procédé de fabrication d'un panneau d'affichage à cristaux liquides, permettant de réduire le coût de fonctionnement et la taille d'une installation. De façon précise, la présente invention se rapporte à un masque photographique utilisé pour exposer un film d'alignement au niveau de chaque région d'exposition sur une surface de substrat. Le masque photographique transmet et réfléchit la lumière qui est entrée à partir de la surface principale du masque photographique, éclaire un côté de la région d'exposition avec la lumière transmise et éclaire l'autre côté de la région d'exposition avec la lumière réfléchie.
(JA)本発明は、ランニングコストを削減したり、設備を縮小化したりすることができるフォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法を提供する。本発明のフォトマスクは、基板面内の露光領域毎に配向膜を露光するのに用いられるフォトマスクであって、上記フォトマスクは、フォトマスクの主面に入射する光に対して透過と反射とを行うものであり、透過した光を露光領域の一方に向けて照射し、反射した光を露光領域の他方に向けて照射することを特徴とするフォトマスクである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)