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1. (WO2011111424) ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機EL表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/111424    国際出願番号:    PCT/JP2011/051084
国際公開日: 15.09.2011 国際出願日: 21.01.2011
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 212/14 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIKUCHI Wataru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMADA Satoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUGIHARA Kouichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKITA Kyouhei [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISHIJI Youhei [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIKUCHI Wataru; (JP).
YAMADA Satoru; (JP).
SUGIHARA Kouichi; (JP).
SAKITA Kyouhei; (JP).
ISHIJI Youhei; (JP)
代理人: NOGUCHI Yasuhiro; NOGUCHI PATENT FIRM, Urban Toranomon Bldg., 16-4, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2010-054589 11.03.2010 JP
発明の名称: (EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING CURED FILM, CURED FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POSITIVE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM DURCI, FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE À ÉCRAN ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機EL表示装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a positive photosensitive resin composition which has high sensitivity and is suppressed in generation of residue during the development. The positive photosensitive resin composition is capable of forming a cured film that has a surface with excellent smoothness. Specifically disclosed is a positive photosensitive resin composition which is characterized by containing (component A) a resin that has a constituent unit represented by formula (1), a constituent unit having an acidic group and a constituent unit having a crosslinkable group, and (component B) an acid generator that has an oxime sulfonate group. In formula (1), R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group; L1 represents a carbonyl group or a phenylene group; and R21-R27 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
(FR)L'invention porte sur une composition de résine photosensible positive qui présente une grande sensibilité et qui ne produit pas de résidu pendant le développement. La composition de résine photosensible positive est capable de former un film durci qui présente une surface ayant un excellent lissé. De façon spécifique, l'invention porte sur une composition de résine photosensible positive qui est caractérisée en ce qu'elle contient (composant A) une résine qui a un motif constitutif représenté par la formule (1), un motif constitutif ayant un groupe acide et un motif constitutif ayant un groupe réticulable, et (composant B) un générateur d'acide, qui possède un groupe oxime sulfonate. Dans la formule (1), R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ; L1 représente un groupe carbonyle ou un groupe phénylène ; et R21-R27 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle.
(JA) 高い感度を有し、現像時における残渣の発生が抑制され、かつ、平滑性に優れた表面を有する硬化膜を形成し得るポジ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(成分A)式(1)で表される構成単位と酸性基を有する構成単位と架橋性基を有する構成単位とを有する樹脂、及び、(成分B)オキシムスルホネート基を有する酸発生剤を含有することを特徴とする。式(1)中、R1は水素原子又はアルキル基を表し、L1はカルボニル基又はフェニレン基を表し、R21~R27はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)