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1. (WO2011111327) アライメント方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/111327    国際出願番号:    PCT/JP2011/001132
国際公開日: 15.09.2011 国際出願日: 28.02.2011
IPC:
G03F 9/00 (2006.01), G03F 7/207 (2006.01), H01J 9/02 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HAMADA, Ryota; (米国のみ).
MURAKOSO, Tomohiro; (米国のみ)
発明者: HAMADA, Ryota; .
MURAKOSO, Tomohiro;
代理人: NAITO, Hiroki; c/o Panasonic Corporation, 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP)
優先権情報:
2010-055728 12.03.2010 JP
発明の名称: (EN) ALIGNMENT METHOD AND FLAT PANEL DISPLAY MANUFACTURE METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'ALIGNEMENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉCRAN PLAT
(JA) アライメント方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an alignment method that sets the distance between a substrate and a photomask to a prescribed exposure gap. The photomask is rectangular in shape and includes a first side and a second side in opposition to the first side. The distance between the midpoint of the first side and the substrate is matched to the exposure gap. By rotating the photomask with a line joining the midpoint of the first side with the midpoint of the second side as an axis, the distances between each end of the first side and the substrate are matched to the exposure gap. By rotating the photomask with the first side as the axis, the distance between the midpoint of the second side and the substrate is matched to the exposure gap.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'alignement qui règle la distance entre un substrat et un masque photographique à un intervalle d'exposition prescrit. La masque photographique est de forme rectangulaire et comporte un premier côté et un second côté opposé au premier côté. La distance entre le milieu du premier côté et le substrat est appariée à l'intervalle d'exposition. Par la rotation du masque photographique avec une ligne reliant le milieu du premier côté au milieu du second côté comme axe, les distances entre chaque extrémité du premier côté et le substrat sont appariées à l'intervalle d'exposition. Par la rotation du masque photographique avec le premier côté comme axe, la distance entre le milieu du second côté et le substrat est appariée à l'intervalle d'exposition.
(JA)基板とフォトマスクとの距離を所定の露光ギャップに設定するアライメント方法である。フォトマスクは矩形であり、かつ、第1の辺と、第1の辺と対向する第2の辺とを含む。第1の辺の中点と基板との距離を露光ギャップに合わせる。第1の辺の中点と、第2の辺の中点とを結ぶ線を軸としてフォトマスクを回転させることによって、第1の辺の両端のそれぞれと基板との距離を前記露光ギャップに合わせる。第1の辺を軸としてフォトマスクを回転させることによって、第2の辺の中点と基板との距離を露光ギャップに合わせる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)