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1. (WO2011111134) 蒸着マスク、蒸着装置及び蒸着方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/111134    国際出願番号:    PCT/JP2010/006416
国際公開日: 15.09.2011 国際出願日: 29.10.2010
IPC:
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SONODA, Tohru; (米国のみ).
HAYASHI, Nobuhiro; (米国のみ).
KAWATO, Shinichi; (米国のみ)
発明者: SONODA, Tohru; .
HAYASHI, Nobuhiro; .
KAWATO, Shinichi;
代理人: MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg., 5-7, Hommachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP)
優先権情報:
2010-051313 09.03.2010 JP
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD
(FR) MASQUE, APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスク、蒸着装置及び蒸着方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a vapor deposition mask for patterning a thin film (3) on a substrate (10) by vapor deposition of vapor deposition particles through a plurality of stripe-shaped openings (K). The vapor deposition mask comprises a frame (65), a plurality of mask layers (70) provided so as to be superimposed on each other within that frame and support layers (71) provided between these mask layers (70). The mask layers (70) are formed by stretching a plurality of mask wires (72) to form a striped shape, and the support layers (71) are formed by stretching a plurality of support wires (74) that cross the mask wires (72). A plurality of through-spaces (73a) is formed so as to pass through all of the plurality of mask layers (70) linearly by superimposing a plurality of spaces (73) in each of the plurality of mask layers (70), and the openings (K) are formed by these through-spaces (73a).
(FR)L'invention concerne un masque de dépôt en phase vapeur pour modeler un film mince (3) sur un substrat (10) par dépôt en phase vapeur de particules à travers une pluralité d'ouvertures en forme de stries (K). Le masque de dépôt en phase vapeur comprend un cadre (65), une pluralité de couches de masque (70) disposées de manière à être superposées à l'intérieur de ce cadre, et des couches de support (71) intercalées entre ces couches de masque (70). Les couches de masque (70) sont formées en étirant une pluralité de fils de masque (72) pour obtenir une forme striée, et les couches de support (71) sont formées en étirant une pluralité de fils de support (74) qui croisent les fils de masque (72). Une pluralité d'espaces traversants (73a) est formée de manière à traverser linéairement toutes les couches de la pluralité de couches de masque (70) en superposant une pluralité d'espaces (73) dans chaque couche de la pluralité de couches de masque (70), et les ouvertures (K) sont formées par ces espaces traversants (73a).
(JA) 複数のストライプ状の開口Kを通じて蒸着粒子を蒸着させることにより、基板10に薄膜3をパターンニングする蒸着マスクである。蒸着マスクは、フレーム65と、その枠内に重ねて設けられる複数のマスク層70と、これらマスク層70の間に設けられる支持層71とを備える。マスク層70は、複数のマスクワイヤ72をストライプ状に張ることによって形成され、支持層71は、マスクワイヤ72と交差して複数の支持ワイヤ74を張ることによって形成されている。複数のマスク層70のそれぞれが有する複数の隙間73が重なることにより、複数のマスク層70の全てを直線状に貫通する複数の貫通隙間73aが複数形成されており、これら貫通隙間73aによって開口Kが構成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)