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1. (WO2011108705) 感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/108705    国際出願番号:    PCT/JP2011/055074
国際公開日: 09.09.2011 国際出願日: 04.03.2011
IPC:
G03F 7/075 (2006.01), C08F 299/08 (2006.01), C08G 77/14 (2006.01), C08G 77/20 (2006.01), C08L 83/04 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1168554 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HARA, Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HARA, Kenji; (JP)
代理人: HATORI, Osamu; AKASAKA HKN BLDG., 6F., 8-6, Akasaka 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
優先権情報:
2010-049437 05.03.2010 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive resin composition—that can form a minute pattern by means of photolithography, can form a insulating film without heat treatment above 200°C, and has no problems of carrier being trapped and charge mobility decreasing when used as a gate insulating film of an organic thin-film transistor—containing a photo-radical generating agent and a polysiloxane compound having units represented by the belowmentioned general formulae (1-4). (In formula 1, R1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R2 represents an alkylene group having a carbon number of 1-5 that may have a substituent alkyl group. In formula 2, R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of 1-4. In formula 3, R4 represents an alkyl group having a carbon number of 1-6 or a cycloalkyl group having a carbon number of 5-6. In formula 4, R5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having a carbon number of 1-4.)
(FR)La présente invention se rapporte à une composition de résine photosensible qui peut former un motif extrêmement fin au moyen d'un procédé de photolithographie; qui peut former une couche mince isolante sans traitement thermique à plus de 200 °C; et qui est exempte de problèmes d'emprisonnement de porteuse et de diminution de la mobilité de charge quand elle est utilisée en tant qu'une couche mince d'isolation de grille d'un transistor organique à couches minces. La composition de résine photosensible selon l'invention contient un agent générateur de radical photochimique et un composé polysiloxane ayant des unités représentées par les formules générales (1-4) mentionnées ci-dessous. (Dans la formule 1, R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, et R2 représente un groupe alcoylène ayant un nombre d'atomes de carbone allant de 1 à 5 qui peut avoir un groupe alkyle substitutif. Dans la formule 2, R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant un nombre d'atomes de carbone allant de 1 à 4. Dans la formule 3, R4 représente un groupe alkyle ayant un nombre d'atomes de carbone allant de 1 à 6 ou un groupe cycloalkyle ayant un nombre d'atomes de carbone allant de 5 à 6. Dans la formule 4, R5 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ayant un nombre d'atomes de carbone allant de 1 à 4.)
(JA) 本発明は、フォトリソグラフィにより微細なパターンを形成でき、200℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、しかも有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供するものであり、下記一般式(1)~(4)で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物を提供するものである。(式(1)中、Rは水素原子又はメチル基を表わし、Rは置換アルキル基を有していてもよい炭素数1~5のアルキレン基を表わし、式(2)中、Rは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表わし、式(3)中、Rは炭素数1~6のアルキル基又は炭素数5~6のシクロアルキル基を表わし、式(4)中、Rは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表わす。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)