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1. (WO2011108489) スパッタリング装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/108489    国際出願番号:    PCT/JP2011/054503
国際公開日: 09.09.2011 国際出願日: 28.02.2011
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
出願人: ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAJIMA, Teppei [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIM, Jung-Gun [KR/KR]; (KR) (米国のみ).
JEONG, Byeong-Hwa [KR/KR]; (KR) (米国のみ).
LEE, Sang-Ho [KR/KR]; (KR) (米国のみ)
発明者: NAKAJIMA, Teppei; (JP).
KIM, Jung-Gun; (KR).
JEONG, Byeong-Hwa; (KR).
LEE, Sang-Ho; (KR)
代理人: KURIHARA, Hiroyuki; Kurihara International Patent Office, Iwasaki Bldg. 6F, 3-15, Hiroo 1-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1500012 (JP)
優先権情報:
2010-044796 01.03.2010 JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
(JA) スパッタリング装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a sputtering device (1) provided with a vacuum chamber (11), a plurality of targets (132a-132d) arranged in parallel having a specified distance therebetween and disposed opposite of a substrate provided in the vacuum chamber, a power source to apply voltage to the targets, and a gas introduction means (12) for introducing gas into the vacuum chamber. The sputtering device also has shields (20) that cover the upper surfaces of the ends of the targets.
(FR)L'invention concerne un dispositif de pulvérisation cathodique (1) équipé d'une chambre à vide (11), d'une pluralité de cibles (132a-132d) disposées en parallèle avec une distance spécifiée entre elles à l'opposé d'un substrat présent dans la chambre à vide, d'une alimentation électrique pour appliquer une tension aux cibles, et d'un moyen d'introduction de gaz (12) pour introduire un gaz dans la chambre à vide. Le dispositif de pulvérisation cathodique (1) comporte également des blindages (20) qui recouvrent les surfaces supérieures des extrémités des cibles.
(JA)スパッタリング装置1は、真空チャンバ11と、この真空チャンバ内に設置された基板に対向する位置に、所定の間隔を置いて並設された複数のターゲット132a~132dと、ターゲットに電圧を印加する電源と、真空チャンバ内にガスを導入するガス導入手段12とを備えたスパッタリング装置であって、ターゲットの端部には、該端部の上面を覆うシールド部材20を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)