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1. (WO2011108462) 物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/108462    国際出願番号:    PCT/JP2011/054327
国際公開日: 09.09.2011 国際出願日: 25.02.2011
IPC:
G01N 21/35 (2014.01), G01N 21/3563 (2014.01), G01N 21/3586 (2014.01), G01N 21/41 (2006.01), G01N 21/55 (2014.01), G01N 21/59 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
UNIVERSITY OF YAMANASHI [JP/JP]; 4-4-37, Takeda, Kofu, Yamanashi 4008510 (JP) (米国を除く全ての指定国).
RIKEN [JP/JP]; 2-1, Hirosawa, Wako-Shi, Saitama 3510198 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMIZU, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ARIMA, Susumu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKUZAKI, Hidenori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OTANI, Chiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMASHITA, Masatsugu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMIZU, Masahiro; (JP).
ARIMA, Susumu; (JP).
OKUZAKI, Hidenori; (JP).
OTANI, Chiko; (JP).
YAMASHITA, Masatsugu; (JP)
代理人: KOHNO, Takao; KOHNO PATENT OFFICE, 4-3, Tsuriganecho 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400035 (JP)
優先権情報:
2010-044546 01.03.2010 JP
発明の名称: (EN) PROPERTY MEASUREMENT DEVICE, PROPERTY MEASUREMENT METHOD, THIN-FILM SUBSTRATE MANUFACTURING SYSTEM, AND PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE MESURE DE PROPRIÉTÉS, PROCÉDÉ DE MESURE DE PROPRIÉTÉS, SYSTÈME DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT À COUCHE MINCE, ET PROGRAMME
(JA) 物性測定装置、物性測定方法、薄膜基板製造システム及びプログラム
要約: front page image
(EN)Disclosed is a property measurement device that measures the properties of a thin film (H) formed on the surface of a substrate (K). Said property measurement device is provided with: a terahertz radiation source that generates terahertz radiation; a movement means that moves the substrate (K) and the thin film (H) such that a film region (F) of the substrate (K) surface, where the thin film (H) is formed, and a non-film region (N) of the substrate (K) surface, where the thin film (H) is not formed, are irradiated by the terahertz radiation emitted from the terahertz radiation source; a detection means that detects the electric field strength of transmitted or reflected radiation from the film region (F) and the non-film region (N) multiple times; an integration means that integrates the electric field strength of the transmitted or reflected radiation detected multiple times by the detection means; and a measurement means that measures the change over time in the electric field strength of the transmitted or reflected radiation integrated by the integration means.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de mesure de propriétés, qui mesure les propriétés d'une couche mince (H) formée sur la surface d'un substrat (K). Ce dispositif de mesure de propriétés comporte une source de rayonnement térahertz, qui produit un rayonnement térahertz ; un moyen de déplacement, qui déplace le substrat (K) et la couche mince (H) de telle sorte qu'une région de couche (F) de la surface du substrat (K) sur laquelle la couche mince (H) est formée, et une région sans couche (N) de la surface de substrat (K) sur laquelle la couche mince (H) n'est pas formée, soient irradiées par le rayonnement térahertz émis par la source de rayonnement térahertz ; un moyen de détection, qui détecte l'intensité du champ électrique du rayonnement transmis ou réfléchi par la région de couche (F) et la région sans couche (N), et ce un certain nombre de fois ; un moyen d'intégration, qui intègre l'intensité du champ électrique du rayonnement transmis ou réfléchi détecté plusieurs fois par le moyen de détection ; et un moyen de mesure, qui mesure la variation dans le temps de l'intensité du champ électrique du rayonnement transmis ou réfléchi intégré par le moyen d'intégration.
(JA) 基板K表面に形成された薄膜Hの物性を測定する物性測定装置において、テラヘルツ波を発生するテラヘルツ波発生源と、基板K表面に薄膜Hが形成された成膜領域F及び該基板K表面に薄膜Hが形成されていない非成膜領域Nに、テラヘルツ波発生源からのテラヘルツ波が照射されるように、基板K及び薄膜Hを移動する移動手段と、成膜領域F及び非成膜領域Nからの透過波又は反射波の電場強度を複数回検出する検出手段と、検出手段が複数回検出した透過波又は反射波の電場強度を積算する積算手段と、積算手段が積算した透過波又は反射波の電場強度の時間変化を測定する測定手段とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)