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1. (WO2011105461) 露光装置用光照射装置、露光装置、露光方法、基板の製造方法、マスク、及び被露光基板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105461    国際出願番号:    PCT/JP2011/054051
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 23.02.2011
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 1/08 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NSK Technology Co., Ltd. [JP/JP]; 6-3, Ohsaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAWASHIMA Hironori; (米国のみ).
HASHINAGA Hiroshi; (米国のみ).
TOGASHI Takumi; (米国のみ).
MATSUZAKA Masaaki; (米国のみ)
発明者: KAWASHIMA Hironori; .
HASHINAGA Hiroshi; .
TOGASHI Takumi; .
MATSUZAKA Masaaki;
代理人: OGURI Shohei; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2010-039025 24.02.2010 JP
2010-040353 25.02.2010 JP
2010-042532 26.02.2010 JP
2011-031272 16.02.2011 JP
2011-031273 16.02.2011 JP
発明の名称: (EN) OPTICAL PROJECTION DEVICE FOR EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR EXPOSURE, METHOD FOR FABRICATING SUBSTRATE, MASK, AND EXPOSED SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE PROJECTION OPTIQUE POUR APPAREIL D'EXPOSITION, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT, MASQUE ET SUBSTRAT EXPOSÉ
(JA) 露光装置用光照射装置、露光装置、露光方法、基板の製造方法、マスク、及び被露光基板
要約: front page image
(EN)An optical projection device for an exposure apparatus, a proximity exposure apparatus, a method for proximity exposure, and a method for fabricating a substrate are disclosed which are capable of providing improved resolution without using expensive masks. A mask, an exposed substrate, an exposure apparatus, and a method for exposure are also disclosed which enable color filters or liquid crystal panels to be efficiently manufactured. The proximity exposure apparatus allows the major optical axis (L) of a beam of light emitted from a plurality of light sources (73) to be dispersively incident upon the area around an integrator (74). The mask has an exposure pattern with a pattern formed to be transferred to the exposed substrate. The mask further includes a first alignment mark formed adjacent to a first side of the outer rim of the exposure pattern and a second alignment mark formed adjacent to a second side that faces the first side of the outer rim of the exposure pattern. The first alignment mark is disposed so as not to overlap the second alignment mark when viewed in the direction of stepping.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de projection optique pour un appareil d'exposition, sur un appareil d'exposition de proximité, sur un procédé d'exposition de proximité et sur un procédé de fabrication d'un substrat, qui sont capables d'assurer une résolution améliorée sans faire appel à des masques onéreux. Elle porte aussi sur un masque, sur un substrat exposé, sur un appareil d'exposition et sur un procédé d'exposition, qui permettent de fabriquer efficacement des filtres colorés ou des panneaux à cristaux liquides. L'appareil d'exposition de proximité permet au grand axe optique (L) d'un faisceau de lumière émis à partir d'une pluralité de sources de lumière (73) de tomber avec effet de dispersion sur la zone qui entoure un intégrateur (74). Le masque a un motif d'exposition, avec un motif formé de façon à être transféré sur le substrat exposé. Le masque comprend en outre un premier repère d'alignement, formé au voisinage immédiat d'une première face du bord extérieur du motif d'exposition et un second repère d'alignement formé au voisinage immédiat d'une seconde face, qui est en regard de la première face du bord extérieur du motif d'exposition. Le premier repère d'alignement est disposé de façon à ne pas chevaucher le second repère d'alignement, quand on regarde dans la direction de l'étagement.
(JA) 高価なマスクを用いることなく、解像度を改善することが可能な露光装置用光照射装置、近接露光装置、及び近接露光方法、並びに基板の製造方法を提供する。また、カラーフィルタまたは液晶パネルを効率よく製造することができるマスク、被露光基板、露光装置及び露光方法を提供する。 近接露光装置は、複数の光源部73から出射される光の主光軸Lがインテグレータ74の周辺部に分散して入射される。また、マスクは、被露光基板に露光するパターンが形成された露光パターンと、露光パターンの外縁の第1の辺に隣接した位置に形成された第1のアライメントマークと、露光パターンの外縁の第1の辺に対向する第2の辺に隣接した位置に形成された第2のアライメントマークと、を有し、第1のアライメントマークは、ステップ方向から見た場合において、第2のアライメントマークが形成されている位置とは、重ならない位置に配置されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)