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1. (WO2011105443) ネガ型感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及びその形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105443    国際出願番号:    PCT/JP2011/054019
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 23.02.2011
IPC:
G03F 7/033 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), C08F 32/04 (2006.01), C08F 277/00 (2006.01), G03F 7/40 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630449 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUKUYAMA Takehiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MASUDA Katsuyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRATA Tomohiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOBAYASHI Yuuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YASU Katsuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NINOMIYA Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: FUKUYAMA Takehiro; (JP).
MASUDA Katsuyuki; (JP).
HIRATA Tomohiro; (JP).
KOBAYASHI Yuuji; (JP).
YASU Katsuhiko; (JP).
NINOMIYA Satoshi; (JP)
代理人: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2010-040341 25.02.2010 JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, INTERLAYER INSULATING FILM AND METHOD OF FORMATION OF SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE NÉGATIVE, FILM ISOLANT INTERCOUCHE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE CEUX-CI
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及びその形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a negative photosensitive resin composition comprised of (A) an annual olefin resin containing repeating units represented by a general formula (1) (where R1, R2, R3 and R4 each represent an independent substituent group chosen from: a hydrogen atom, an alkyl group having 1-15 carbon atoms, an alkenyl group with 2-20 carbon atoms, a cycloalkyl group with 5-15 carbon atoms, an aryl group with 6-20 carbon atoms or an alkoxy group with 1-20 carbon atoms; or a hydrolysable silyl group, an alkoxycarbonyl group with 2-20 carbon atoms, a trialkylsiloxy carbonyl group with 4-20 carbon atoms, an alkyl carbonyl oxy group with 2-20 carbon atoms, an alkenyl carbonyl oxy group with 3-20 carbon atoms and an oxetanyl group; attached directly or via and jointly with an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulphur atom), (B) a polyfunctional acrylic monomer and (C) a photoinitiator.
(FR)L'invention concerne une composition de résine photosensible négative constituée de : (A) une résine oléfinique cyclique contenant des motifs répétés représentés par la formule générale (1) (dans laquelle R1, R2, R3 et R4 représentent chacun un groupe substituant indépendant choisi dans le groupe comprenant un atome d'hydrogène, un groupe alkyle doté de 1 à 15 atomes de carbone, un groupe alcényle doté de 2 à 20 atomes de carbone, un groupe cycloalkyle doté de 5 à 15 atomes de carbone, un groupe aryle doté de 6 à 20 atomes de carbone ou un groupe alcoxy doté de 1 à 20 atomes de carbone; ou un groupe silyle hydrolysable, un groupe alcoxycarbonyle doté de 2 à 20 atomes de carbone, un groupe carbonyle trialkylsiloxy doté de 4 à 20 atomes de carbone, un groupe alkyle carbonyloxy doté de 2 à 20 atomes de carbone, un groupe alcényle carbonyloxy doté de 3 à 20 atomes de carbone et un groupe oxétanyle, qui sont fixés directement ou par l'intermédiaire de l'atome d'oxygène, d'azote ou de soufre auquel ils sont liés); (B) un monomère acrylique polyfonctionnel et (C) un photoinitiateur.
(JA)下記一般式(1)で表される繰り返し単位:(1)(式中R、R、R及びRは、各々独立して水素原子、炭素数1~15のアルキル基、炭素数2~20のアルケニル基、炭素数5~15のシクロアルキル基、炭素数6~20のアリール基若しくは炭素数1~20のアルコキシ基、又は、加水分解性シリル基、炭素数2~20のアルコキシカルボニル基、炭素数4~20のトリアルキルシロキシカルボニル基、炭素数2~20のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数3~20のアルケニルカルボニルオキシ基及びオキセタニル基から選ばれる置換基を示し、直接、又は、酸素原子、窒素原子若しくは硫黄原子を介して互いに連結されていてもよい。)を含む(A)環状オレフィン樹脂と、(B)多官能性アクリルモノマーと、(C)光重合開始剤と、を含有するネガ型感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)