WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2011105399) 含フッ素ラクトンモノマー化合物、含フッ素ラクトンポリマー化合物とそのレジスト液およびトップコート用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105399    国際出願番号:    PCT/JP2011/053911
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 23.02.2011
IPC:
C08F 20/28 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NADANO, Ryo; (米国のみ).
AKIBA, Shinya; (米国のみ).
MIYAUCHI, Koichi; (米国のみ)
発明者: NADANO, Ryo; .
AKIBA, Shinya; .
MIYAUCHI, Koichi;
代理人: HASHIMOTO, Takeshi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
優先権情報:
2010-039241 24.02.2010 JP
2010-039242 24.02.2010 JP
2011-032026 17.02.2011 JP
2011-032027 17.02.2011 JP
発明の名称: (EN) FLUORINE-CONTAINING LACTONE MONOMERIC COMPOUND, FLUORINE -CONTAINING LACTONE POLYMERIC COMPOUND, RESIST FLUID AND TOPCOATING COMPOSITION THAT CONTAIN SAME, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING SAME
(FR) COMPOSÉ MONOMÈRE DE LACTONE CONTENANT DU FLUOR, COMPOSÉ POLYMÈRE DE LACTONE CONTENANT DU FLUOR, FLUIDE DE RÉSERVE ET COMPOSITION DE COUCHE SUPÉRIEURE CONTENANT CEUX-CI, ET PROCÉDÉ POUR LA FORMATION DE MOTIF UTILISANT CEUX-CI
(JA) 含フッ素ラクトンモノマー化合物、含フッ素ラクトンポリマー化合物とそのレジスト液およびトップコート用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A resist which exhibits improved water repellency, solvent solubility and developer solubility can be obtained by using, as the resist material, a polymeric compound which contains a structural unit formed by polymerization of a fluorine-containing lactone monomeric compound represented by general formula (1). Further, an extremely fine and high-accuracy pattern shape can be attained by using a topcoating fluid containing the polymeric compound. In general formula (1), R1, R2, R3 and R4 are each independently hydrogen, C1-6 linear alkyl, C3-6 branched alkyl, or C3-6 cyclic alkyl; R5 is hydrogen, fluorine, optionally fluorinated C1-6 linear alkyl, C3-6 branched alkyl, or C3-6 cyclic alkyl; and Rf is C1-4 linear perfluoroalkyl.
(FR)La présente invention concerne une réserve qui présente une hydrophobie, une solubilité dans les solvants et une solubilité dans un révélateur améliorées qui peut être obtenue en utilisant, en tant que matériau de réserve, un composé polymère qui contient une unité structurale formée par polymérisation d'un composé monomère de lactone contenant du fluor représenté par la formule générale (1). De plus, une forme de motif extrêmement fine et très précise peut être obtenue en utilisant un fluide de couche supérieure contenant le composé polymère. Dans la formule générale (1), R1, R2, R3 et R4 sont chacun indépendamment un hydrogène, un alkyle linéaire en C1-6, un alkyle ramifié en C3-6, ou un alkyle cyclique en C3-6 ; R5 est un hydrogène, un fluor, un alkyle linéaire en C1-6 facultativement fluoré, un alkyle ramifié en C3-6, ou un alkyle cyclique en C3-6 ; et Rf est un perfluoroalkyle linéaire en C1-4.
(JA)一般式(1)で表される含フッ素ラクトンモノマー化合物が重合した構造単位を含むポリマー化合物をレジスト材料に用いると、撥水性、溶剤溶解性および現像液溶解性が向上したレジストが得られる。さらに、前記ポリマー化合物をトップコート液に用いると、極めて微細且つ高精度なパターン形状を得ることができる。(式(1)中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1~6の直鎖状アルキル基、炭素数3~6の分枝鎖状アルキル基または炭素数3~6の環状アルキル基であり、R5は水素原子もしくはフッ素原子、またはフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~6の直鎖状アルキル基、炭素数3~6の分岐鎖状アルキル基もしくは炭素数3~6の環状アルキル基であり、Rfは炭素数1~4の直鎖状パーフルオロアルキル基である。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)