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World Intellectual Property Organization
1. (WO2011105333) 流体処理装置及び処理方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105333    国際出願番号:    PCT/JP2011/053723
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 21.02.2011
B01J 19/18 (2006.01), B01F 3/08 (2006.01), B01F 5/00 (2006.01), B01J 19/00 (2006.01)
出願人: M. TECHNIQUE CO., LTD. [JP/JP]; 2-16, Technostage 2-chome, Izumi-shi, Osaka 5941144 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ENOMURA Masakazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ENOMURA Masakazu; (JP)
代理人: SAMEJIMA Takenobu; Shinmachi Bldg. 905, 1-2-13, Shinmachi, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500013 (JP)
2010-042590 26.02.2010 JP
(JA) 流体処理装置及び処理方法
要約: front page image
(EN)A fluid treatment device for treating an object to be treated between treating surfaces (1, 2) which can be made close to and away from each other so as to rotate in a relative manner, introduces a first fluid between the treating surfaces (1, 2), introduces a second fluid between the treating surfaces (1, 2) from another flow path (d2) independent of the first fluid, and mixes and stirs the first and second fluids between the treating surfaces (1, 2) to undergo treatment. A treating section (20) of the device is composed by assembling a plurality of divided treating section component members (20a, 20b). An opening (d20) and a flow path (d2) are formed in the space between the plurality of treating section component members (20a, 20b). This eliminates the need to create all ring-shaped disks which are the treating section (20) as one block, and also eliminates the need to substantially process the flow path (d2) leading to the opening (d20), thereby making it possible to easily undergo decomposition and cleaning.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de traitement par un fluide, pour traiter un objet devant être traité entre des surfaces de traitement (1, 2), qui peuvent être rapprochées et éloignées l'une de l'autre de façon à tourner l'une par rapport à l'autre, ce dispositif introduisant un premier fluide entre les surfaces de traitement (1, 2), introduisant un deuxième fluide entre les surfaces de traitement (1, 2), provenant d'un autre trajet d'écoulement (d2) indépendant du premier fluide, et mélangeant et agitant le premier et le deuxième fluide entre les surfaces de traitement (1, 2) pour leur faire subir le traitement. Une section de traitement (20) du dispositif est composée par assemblage d'une pluralité d'éléments (20a, 20b) subdivisés de composants de section de traitement. Une ouverture (d20) et un trajet d'écoulement (d2) sont formés dans l'espace entre la pluralité d'éléments de composants de section de traitement (20a, 20b). Cette façon de faire permet d'éliminer la nécessité de créer tous les disques annulaires qui forment la section de traitement (20) en un seul bloc, et élimine aussi la nécessité de traiter de façon substantielle le trajet d'écoulement (d2) conduisant à l'ouverture (d20), lui permettant ainsi de subir facilement une décomposition et un nettoyage.
(JA) 接近・離反可能な相対的に回転する処理用面(1,2)の間で被処理物の処理を行う流体処理装置であって、第1流体を処理用面(1,2)間に導入し、この流体とは独立した別の流路(d2)から第2流体を処理用面(1,2)間に導入し、処理用面(1,2)間で混合・攪拌して処理を行う。この装置の処理用部(20)は、分割された複数の処理用部構成部材(20a,20b)を組み付けることによって構成される。複数の処理用部構成部材(20a,20b)との空間に、開口部(d20)および流路(d2)が形成される。これにより処理用部(20)であるリング状ディスクの全部を一塊として作製する必要が無くなり、また開口部(d20)に通じる流路(d2)を実質的に加工する必要が無くなり、分解・洗浄を容易に行い得る。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)