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1. (WO2011105158) プラズマ処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105158    国際出願番号:    PCT/JP2011/051601
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 27.01.2011
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01)
出願人: SANYO Electric Co., Ltd. [JP/JP]; 5-5, Keihan-Hondori 2-chome, Moriguchi-shi, Osaka 5708677 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KURODA Akihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIRIHATA Yutaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
Aya Youichirou [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUROKAWA Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KURODA Akihiro; (JP).
KIRIHATA Yutaka; (JP).
Aya Youichirou; (JP).
KUROKAWA Yoshihiro; (JP)
代理人: KADOYA Hiroshi; c/o SANYO Electric Co., Ltd., 5-5, Keihan-Hondori 2-chome, Moriguchi-shi, Osaka 5708677 (JP)
優先権情報:
2010-043154 26.02.2010 JP
2010-074867 29.03.2010 JP
2010-092336 13.04.2010 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT À PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
要約: front page image
(EN)Disclosed is a plasma processing apparatus wherein an electrical field between the electrodes is strengthened. In the plasma processing apparatus (100), the upper electrode (12) which can hold a substrate (102), and the lower electrode (14) disposed to face the upper electrode (12) are provided in a vacuum chamber (10). On a lower electrode (14) portion facing the upper electrode (12), a plurality of columnar protruding sections (14a) are formed toward the upper electrode (12), and the columnar protruding sections (14a) are disposed on the lower electrode (14), satisfying the relationship having a P/W ratio of 1.3 or more, where (P) is the pitch with which the columnar protruding sections (14a) are disposed, and (W) is the width of the leading end portion of the columnar protruding sections.
(FR)La présente invention concerne un appareil de traitement à plasma. Dans ledit appareil, un champ électrique entre les électrodes est renforcé. Dans l'appareil de traitement à plasma (100), l'électrode supérieure (12) qui peut contenir un substrat (102), et l'électrode inférieure (14) disposée pour faire face à l'électrode supérieure (12) sont prévues dans une chambre à vide (10). Sur une partie de l'électrode inférieure (14) fait face à l'électrode supérieure (12), une pluralité de sections saillantes en colonnes (14a) sont formées vers l'électrode supérieure (12), et les sections saillantes en colonnes (14a) sont disposées sur l'électrode inférieure (14), satisfaisant la relation qui possède un rapport P/W de 1,3 ou plus, (P) étant le pas selon lequel les sections saillantes en colonnes (14a) sont disposées, et (W) étant la largeur de la partie d'extrémité avant des sections saillantes en colonnes.
(JA)【課題】プラズマ処理装置における電極間の電界をより強くする。 【解決手段】プラズマ処理装置100では、真空チャンバ10内に、基板102を保持することが可能な上部電極12と、上部電極12と対向するように配置された下部電極14と、を設ける。そして、下部電極14には上部電極12と対向する部分に上部電極12に向かって複数の柱状凸部14aが形成され、下部電極14に柱状凸部14aが、柱状凸部14aの配置のピッチPと先端部の幅Wとの比P/Wを1.3以上となる関係を満たすようにして配置される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)