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1. (WO2011105149) 銅の電解精製装置及びそれを用いた銅の電解精製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105149    国際出願番号:    PCT/JP2011/051209
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 24.01.2011
IPC:
C25C 7/06 (2006.01), C25C 1/12 (2006.01)
出願人: Pan Pacific Copper Co.,Ltd. [JP/JP]; 6-3,Otemachi 2-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMOKAWA,Kimihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NARITA,Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WADA,Tatsuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAGUCHI,Kenichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMOKAWA,Kimihiro; (JP).
NARITA,Makoto; (JP).
WADA,Tatsuya; (JP).
KAWAGUCHI,Kenichi; (JP)
代理人: AXIS Patent International; Yushi Kogyo Kaikan,13-11,Nihonbashi 3-chome,Chuo-ku, Tokyo 1030027 (JP)
優先権情報:
2010-037390 23.02.2010 JP
発明の名称: (EN) ELECTROLYTIC COPPER REFINING DEVICE, AND ELECTROLYTIC COPPER REFINING METHOD USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE RAFFINAGE DU CUIVRE ÉLECTROLYTIQUE, ET PROCÉDÉ DE RAFFINAGE DU CUIVRE ÉLECTROLYTIQUE L'UTILISANT
(JA) 銅の電解精製装置及びそれを用いた銅の電解精製方法
要約: front page image
(EN)Disclosed are an electrolytic copper refining device, and an electrolytic copper refining method using the same, which are capable of producing high-quality electrolytic copper at low manufacturing cost. The electrolytic copper refining device (10) is provided with a copper electrolysis tank (17), an electrolyte supply unit (11) for supplying an electrolyte to the electrolysis tank (17), an additive tank (12) for supplying an additive containing thiourea and hydrochloric acid to the electrolyte supply unit (11), and a gelatin solution tank (13) for continuously supplying to the electrolyte supply unit (11) an aqueous solution of gelatin produced by continuously dissolving continuously supplied gelatin.
(FR)L'invention concerne un dispositif de raffinage du cuivre électrolytique, et un procédé de raffinage de cuivre électrolytique l'utilisant, qui sont capables de produire du cuivre électrolytique de qualité élevée à un faible coût de fabrication. Le dispositif de raffinage du cuivre électrolytique (10) est doté d'une cuve (17) d'électrolyse du cuivre, d'une unité (11) d'alimentation en électrolyte pour introduire un électrolyte dans la cuve d'électrolyse (17), une cuve d'additif (12) pour introduire un additif contenant de la thio-urée et de l'acide chlorhydrique dans l'unité (11) d'alimentation en électrolyte, et une cuve (13) de solution de gélatine pour introduire en continu dans l'unité (11) d'alimentation en électrolyte une solution aqueuse de gélatine obtenue par dissolution continue de la gélatine introduite en continu.
(JA) 品質の良好な電気銅を良好な製造コストで作製できる銅の電解精製装置及びそれを用いた銅の電解精製方法を提供する。銅の電解精製装置10は、銅の電解槽17と、電解槽17へ電解液を供給する電解液供給部11と、チオ尿素及び塩酸を含む添加剤を電解液供給部11へ供給する添加剤槽12と、連続して供給される膠を連続的に溶解して作製した膠の水溶液を、電解液供給部11へ連続的に供給する膠溶解槽13とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)