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1. (WO2011105015) 走査電子顕微鏡の光学条件設定方法、及び走査電子顕微鏡
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/105015    国際出願番号:    PCT/JP2011/000704
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 09.02.2011
IPC:
H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/22 (2006.01), H01J 37/244 (2006.01), H01J 37/28 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WANG, Zhigang [CN/JP]; (JP) (米国のみ).
OKAI, Nobuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKAYA, Ritsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: WANG, Zhigang; (JP).
OKAI, Nobuhiro; (JP).
FUKAYA, Ritsuo; (JP)
代理人: INOUE, Manabu; c/o HITACHI,LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
優先権情報:
2010-041238 26.02.2010 JP
発明の名称: (EN) SCANNING ELECTRON MICROSCOPE OPTICAL CONDITION SETTING METHOD AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
(FR) PROCÉDÉ D'ÉTABLISSEMENT DE CONDITION OPTIQUE POUR MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE, ET MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(JA) 走査電子顕微鏡の光学条件設定方法、及び走査電子顕微鏡
要約: front page image
(EN)In order to provide a charged particle beam device optical condition setting method, which enables the setting of an optical condition capable of suppressing the reduction of measurement and inspection accuracy due to the influence of an electrical charge even when there are many measurement points and inspection points, and a charged particle beam device, proposed is a scanning electron microscope or an optical condition setting method for measuring a pattern on a sample on the basis of the detection of electrons emitted from the sample by scanning an electron beam over the surface of the sample. In said scanning electron microscope or said optical condition setting method, from measurement values at a plurality of measurement points on the sample, the change of the measurement value with respect to the number of measurements is found, and the electric field of the surface of the sample is controlled so that the inclination of the change is or approaches zero.
(FR)L'invention concerne un procédé d'établissement de condition optique pour un dispositif à faisceau de particules chargées, qui permet d'ajuster une condition optique permettant de supprimer la diminution de la précision de mesure et d'inspection du fait de l'influence d'une charge électrique même dans le cas de nombreux points de mesure et points d'inspection, ainsi qu'un dispositif à faisceau de particules chargées. A cette fin, l'invention concerne un microscope électronique à balayage et un procédé d'établissement de condition optique permettant de mesurer un motif sur un échantillon en fonction de la détection d'électrons émis par l'échantillon en effectuant un balayage avec un faisceau d'électrons sur la surface de l'échantillon. Dans ce microscope électronique à balayage et ce procédé d'établissement de condition optique, on détermine le changement de la valeur de mesure par rapport au nombre de mesures à partir de valeurs de mesure en une pluralité de points de mesure sur l'échantillon, et on commande le champ électrique à la surface de l'échantillon de sorte que l'inclinaison de changement soit égale à ou se rapproche de zéro.
(JA) 本発明は、測定点や検査点が多数存在する場合であっても、帯電の影響に基づく、測定,検査精度の低下を抑制し得る光学条件の設定を可能とする荷電粒子線装置の光学条件設定方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。 上記目的を達成するために、電子線で試料表面を走査することによって試料から放出される電子の検出に基づいて、前記試料上のパターンを測定する走査電子顕微鏡、或いは光学条件設定方法であって、試料上の複数の測定点の測定値から、測定数に対する測定値の変化を求め、当該変化の傾斜がゼロ、或いはゼロに近くなるように、試料表面電界を制御する走査電子顕微鏡、或いは光学条件設定方法を提案する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)