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1. (WO2011104849) 静電気保護部品及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/104849    国際出願番号:    PCT/JP2010/052986
国際公開日: 01.09.2011 国際出願日: 25.02.2010
IPC:
H01T 4/10 (2006.01)
出願人: KAMAYA ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 8-4-17, Fukayanaka, Ayase-shi, Kanagawa 2521107 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WAKASA Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TODA Atsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRANO Tatsuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: WAKASA Takahiro; (JP).
TODA Atsushi; (JP).
HIRANO Tatsuki; (JP)
代理人: MITSUISHI Toshiro; Mitsuishi Law and Patent Office, 9-15, Akasaka 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTROSTATIC PROTECTION COMPONENT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) COMPOSANT DE PROTECTION ÉLECTROSTATIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 静電気保護部品及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an electrostatic protection component that can minimize decreases in insulation resistance following the application of ESD voltage, and can also minimize variations in the insulation resistance of each component. Also disclosed is a production method therefor. The structure of the electrostatic protection component (100) is provided with surface electrodes (2a, 2b) that are formed upon a ceramic substrate (1) and are mutually facing with a gap (4a) therebetween; glass membranes (21a, 21b) that are formed upon the surface electrodes (2a, 2b) and cover the top surface (2a-3, 2b-3) and both side surfaces (2a-4, 2a-5, 2b-4, 2b-5) of the surface electrodes (2a, 2b), and that are mutually facing with a gap (4b) therebetween that connects to the gap (4a); and an electrostatic protection membrane (5) that has a center portion (5c) and side portions (5a, 5b), wherein the center portion (5c) is disposed in the gaps (4a, 4b) and the side portions (5a, 5b) are stacked on the top surface (21a-2, 21b-2) of the glass membranes (21a, 21b).
(FR)L'invention concerne un composant de protection électrostatique qui minimise les baisses de la résistance d'isolation suite à l'application d'une tension DES, et qui minimise également les variations de la résistance d'isolation de chaque composant. L'invention concerne également un procédé de production de celui-ci. La structure du composant de protection électrostatique (100) comprend : des électrodes de surface (2a, 2b) qui sont formées sur un substrat céramique (1) et qui se font face tout en étant séparées par un espace (4a); des membranes de verre (21a, 21b) qui sont formées sur les électrodes de surface (2a, 2b), qui recouvrent la surface supérieure (2a-3, 2b-3) et les deux surfaces latérales (2a-4, 2a-5, 2b-4, 2b-5) des électrodes de surface (2a, 2b) et qui se font face tout en étant séparées par un espace (4b) relié à l'espace (4a); et une membrane de protection électrostatique (5) comportant une partie centrale (5c) et des parties latérales (5a, 5b), la partie centrale (5c) étant disposée dans les espaces (4a, 4b) et les parties latérales (5a, 5b) étant empilées sur la surface supérieure (21a-2, 21b-2) des membranes de verre (21a, 21b).
(JA) 本発明はESD電圧印加後の絶縁抵抗の低下を極力少なくすることができ、また、部品ごとの絶縁抵抗のバラツキも極力小さくすることができる静電気保護部品及びその製造方法を提供することを目的とする。そのため、静電気保護部品(100)の構成を、セラミックス基板(1)上に形成され、ギャップ(4a)を介して対向している表電極(2a,2b)と、表電極(2a,2b)上に形成されて表電極(2a,2b)の上面(2a-3,2b-3)及び両側面(2a-4,2a-5,2b-4,2b-5)を覆い、且つ、ギャップ(4a)に連なるギャップ(4b)を介して対向しているガラス膜(21a,21b)と、中央部(5c)と両側部(5a,5b)を有し、中央部(5c)がギャップ(4a,4b)に設けられ、両側部(5a,5b)がガラス膜(21a,21b)の上面(21a-2,21b-2)に重なっている静電気保護膜(5)とを有する構成とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)