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1. (WO2011102350) 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、それを用いた素子、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/102350    国際出願番号:    PCT/JP2011/053171
国際公開日: 25.08.2011 国際出願日: 15.02.2011
IPC:
H01B 13/00 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 5/12 (2006.01), C09D 1/00 (2006.01), C09D 5/24 (2006.01), C09D 185/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01)
出願人: SUMITOMO METAL MINING CO.,LTD. [JP/JP]; 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YUKINOBU Masaya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAGANO Takahito [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OTSUKA Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YUKINOBU Masaya; (JP).
NAGANO Takahito; (JP).
OTSUKA Yoshihiro; (JP)
代理人: OSHIDA Yoshitaka; Ginza bldg., 3-12, Ginza 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
優先権情報:
2010-032426 17.02.2010 JP
2010-131190 08.06.2010 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, ELEMENT FORMED USING SAME, TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE, AND DEVICE FORMED USING SAME
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, ÉLÉMENT POURVU DE CELUI-CI, SUBSTRAT CONDUCTEUR TRANSPARENT ET DISPOSITIF POURVU DE CELUI-CI
(JA) 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、それを用いた素子、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス
要約: front page image
(EN)Provided is a transparent conductive film that is formed through coating fluid application, which is an inexpensive simple process for producing a transparent conductive film, especially through low-temperature heating below 300ºC and that combines excellent transparency with high electrical conductivity and has excellent film strength. Also provided is a process for producing the transparent conductive film. The process is a process for producing a transparent conductive film through the following steps: a coating step in which a coating film containing an organometallic compound is formed on a substrate, a drying step in which a dried coating film is formed from the coating film, a heating/energy-ray irradiation step in which the dried coating film is heated and simultaneously irradiated with energy rays to form an inorganic film, and a heating/reduction step that is conducted according to need. In the heating/energy-ray irradiation step, energy rays are irradiated while the dried coating film is heated at a temperature below 300ºC in an oxygenic atmosphere having a dew point of -10ºC or lower, thereby removing the organic component contained in the dried coating film and thus forming a layer of fine conductive oxide particles, the layer being a layer in which fine conductive oxide particles comprising a metal oxide as the main component have been densely packed.
(FR)L'invention concerne un film conducteur transparent qui est formé par l'application d'un fluide de revêtement, ce qui constitue un procédé simple et peu onéreux de fabrication d'un film conducteur transparent, particulièrement par chauffage à une température basse, inférieure à 300 °C, et qui offre d'excellentes caractéristiques en termes de transparence, de conductivité électrique et de résistance du film. L'invention concerne également un procédé de fabrication du film conducteur transparent. Le procédé de fabrication du film conducteur transparent comprend les étapes suivantes : la formation d'un film de revêtement, contenant un composé organométallique, sur un substrat ; le séchage du film de revêtement pour former un film de revêtement séché ; le chauffage/l'exposition simultanée à des rayons énergétiques du film de revêtement séché pour former un film inorganique, et le chauffage/la réduction qui est effectuée en fonction des besoins. Dans l'étape de chauffage/d'exposition à des rayons énergétiques, les rayons sont émis alors que le film de revêtement séché est chauffé à une température inférieure à 300 °C dans une atmosphère d'oxygène ayant un point de rosée d'au plus -10 °C, ce qui élimine le composant organique contenu dans le film de revêtement séché et forme ainsi une couche de fines particules d'oxyde conductrices. La couche est une couche dans laquelle des fines particules d'oxyde conductrices, comportant un oxyde métallique comme composant principal, sont compactées de manière dense.
(JA)【課題】 低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって、特に300℃未満の低温加熱で形成される優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ膜強度に優れる透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 基板上に有機金属化合物を含む塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜から乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を加熱しながらエネルギー線照射して無機膜を形成する加熱エネルギー線照射工程、必要に応じて、加熱還元工程の各工程を経て形成される透明導電膜の製造方法であって、前記加熱エネルギー線照射工程が、乾燥塗布膜を露点温度-10℃以下の酸素含有雰囲気下で、300℃未満の加熱温度に加熱しながら、エネルギー線照射を行い、乾燥塗布膜に含まれる有機成分を除去することで金属酸化物を主成分とする導電性酸化物微粒子が緻密に充填した導電性酸化物微粒子層を形成する透明導電膜の製造方法である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)