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1. (WO2011102268) 半導体ガスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/102268    国際出願番号:    PCT/JP2011/052702
国際公開日: 25.08.2011 国際出願日: 09.02.2011
IPC:
C07C 17/361 (2006.01), C07C 19/08 (2006.01), C07C 51/58 (2006.01), C07C 53/48 (2006.01), C09K 13/08 (2006.01), C11D 7/30 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), C07B 61/00 (2006.01)
出願人: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKADA, Naoto; (米国のみ).
IMURA, Hideaki; (米国のみ).
OKAMOTO, Masamune; (米国のみ)
発明者: TAKADA, Naoto; .
IMURA, Hideaki; .
OKAMOTO, Masamune;
代理人: HASHIMOTO, Takeshi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
優先権情報:
2010-032525 17.02.2010 JP
2010-143716 24.06.2010 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR GAS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN GAZ SEMICONDUCTEUR
(JA) 半導体ガスの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing monofluoro methane, which involves at least a pyrolysis step in which a 1-methoxy-1,1,2,2-tetrafluoro ethane is pyrolyzed by bringing same into contact with a catalyst, and a step for collecting monofluoro methane from the pyrolysis product. As a consequence, it is possible to efficiently and practically produce monofluoro methane that essentially does not contain halogens except fluorine.
(FR)L'invention porte sur un procédé de production de monofluorométhane qui comprend au moins une étape de pyrolyse lors de laquelle on soumet un 1-méthoxy-1,1,2,2-tétrafluoroéthane à une pyrolyse en le mettant en contact avec un catalyseur, et une étape lors de laquelle on prélève le monofluorométhane du produit de la pyrolyse. L'invention permet par conséquent de produire de manière efficace et pratique un monofluorométhane pratiquement dépourvu d'halogènes à l'exception du fluor.
(JA)開示されているのは、1-メトキシ-1,1,2,2-テトラフルオロエタンを触媒と接触させて熱分解する熱分解工程と、熱分解生成物からモノフルオロメタンを回収する工程とを少なくとも有するモノフルオロメタンの製造方法である。この方法によって、フッ素以外のハロゲンを実質上含まないモノフルオロメタンを実用的かつ効率的に製造することが可能である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)