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1. (WO2011101924) 圧力波発生素子及びそれを搭載したデバイス
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/101924    国際出願番号:    PCT/JP2010/003717
国際公開日: 25.08.2011 国際出願日: 03.06.2010
IPC:
B06B 1/18 (2006.01), H04R 17/00 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OGURA, Hiroshi; (米国のみ).
KIMURA, Norio; (米国のみ)
発明者: OGURA, Hiroshi; .
KIMURA, Norio;
代理人: MAEDA, Hiroshi; Osaka-Marubeni Bldg.,5-7,Hommachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP)
優先権情報:
2010-031251 16.02.2010 JP
発明の名称: (EN) PRESSURE WAVE GENERATING COMPONENT AND DEVICE EQUIPPED WITH SAME
(FR) ELÉMENT DE GÉNÉRATION D'ONDES DE PRESSION ET DISPOSITIF ÉQUIPÉ DE CELUI-CI
(JA) 圧力波発生素子及びそれを搭載したデバイス
要約: front page image
(EN)Disclosed is a pressure wave generating component comprised of a silicon substrate (1), an aperture (6) formed in the silicon substrate, and a film formed so as to cover the aperture (6). The film is a layered film comprised of a heat generating body (5) and a heat-insulating layer (7).
(FR)L'invention concerne un élément de génération d'ondes de pression composé d'un substrat de silicium (1), d'une ouverture (6) formée dans le substrat de silicium, et d'un film formé de manière à recouvrir l'ouverture (6). Le film est un film en couches composé d'un corps de génération de chaleur (5) et d'une couche calorifuge (7).
(JA) 圧力波発生素子は、シリコン基板(1)と、シリコン基板に形成された孔(6)と、孔(6)を覆うように形成された膜とを有し、膜は、発熱体(5)と断熱層(7)との積層膜からなる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)