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1. (WO2011096428) 露光方法、露光装置、パターン形成方法、およびデバイス製造方法

Pub. No.:    WO/2011/096428    International Application No.:    PCT/JP2011/052134
Publication Date: 2011/08/11 International Filing Date: 2011/02/02
IPC: G03F 7/213
G03F 7/20
G03F 7/22
H01L 21/027
Applicants: NIKON CORPORATION
株式会社ニコン
KIUCHI Tohru
木内 徹
MIZUTANI Hideo
水谷 英夫
Inventors: KIUCHI Tohru
木内 徹
MIZUTANI Hideo
水谷 英夫
Title: 露光方法、露光装置、パターン形成方法、およびデバイス製造方法
Abstract:
 長尺基板(SH)にパターンを転写する露光装置は、パターンを移動させるステージ機構(MS)と、第1部分領域(IR1)に配置される第1部分パターンの拡大像を第1投影領域(ER1)に所定倍率で投影し、且つ第1部分領域から所定の中心間隔を置いた第2部分領域(IR2)に配置される第2部分パターンの拡大像を第2投影領域(ER2)に所定倍率で投影する投影光学系(PL)と、第1投影領域及び第2投影領域を経由するように長尺基板を移動させる移動機構(SC)と、所定倍率及び中心間隔に基づいて、第1投影領域から第2投影領域までの長尺基板の基板長を調整する調整機構(50)と、を備えている。