WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2011096328) パターン検査方法及びその装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/096328    国際出願番号:    PCT/JP2011/051632
国際公開日: 11.08.2011 国際出願日: 27.01.2011
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), G01B 11/24 (2006.01), G01N 21/95 (2006.01)
出願人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SASAZAWA Hideaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIROSE Takenori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SERIKAWA Shigeru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HORIE Kiyotaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SASAZAWA Hideaki; (JP).
HIROSE Takenori; (JP).
SERIKAWA Shigeru; (JP).
HORIE Kiyotaka; (JP)
代理人: POLAIRE I.P.C.; 7-1, Hatchobori 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
優先権情報:
2010-024350 05.02.2010 JP
発明の名称: (EN) PATTERN INSPECTION METHOD AND DEVICE FOR SAME
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE MOTIFS ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
(JA) パターン検査方法及びその装置
要約: front page image
(EN)During optical inspection of patterned media for hard disk-use, in order to perform inspection of a pattern without being affected by film thickness variation or film quality variation of an underlying film, the disclosed pattern inspection device is constituted to be provided with a rotary table means on which a sample is placed in a rotatable manner; an illumination means for emitting an illumination light onto the sample; a spectroscopic detection means for splitting reflected light from a region that has been radiated with light from the illumination means and detecting thereof; an optical properties detection means for processing a reflected light detection signal from a region wherein a pattern of a substrate detected by splitting light at the spectroscopic detection means has not been formed in order to detect optical properties of a multilayer film, and processing the reflected light detection signal from a pattern including the multilayer film in order to detect optical properties of the reflected light from a pattern including the multilayer film; and a pattern inspection means for processing information of optical properties of the reflected light from a pattern including the multilayer film using information of the optical properties of the reflected light from the multilayer film that have been detected at the optical properties detection means, and thereby inspecting a pattern formed upon the multilayer film.
(FR)Au cours de l'inspection optique d'un support structuré pour une utilisation de disque dur, afin d'effectuer une inspection d'un motif sans être affecté par la variation d'épaisseur ou la variation de qualité de film d'un film sous-jacent, le dispositif d'inspection de motifs de l'invention est constitué pour être pourvu d'un moyen de table rotative sur lequel un échantillon est placé de manière rotative ; d'un moyen d'éclairage permettant d'émettre une lumière d'éclairage sur l'échantillon ; d'un moyen de détection spectroscopique permettant de séparer une lumière réfléchie provenant d'une zone qui a été irradiée par la lumière du moyen d'éclairage et de détecter celle-ci ; d'un moyen de détection de propriétés optiques permettant de traiter un signal de détection de lumière réfléchie provenant d'une zone dans laquelle un motif d'un substrat détecté en séparant la lumière dans le moyen de détection spectroscopique n'a pas été formé pour détecter les propriétés optiques d'un film multicouche, et de traiter le signal de détection de lumière réfléchie provenant d'un motif comprenant le film multicouche afin de détecter les propriétés optiques de la lumière réfléchie provenant d'un motif comprenant le film multicouche ; et d'un moyen d'inspection de motifs permettant de traiter les informations des propriétés optiques de la lumière réfléchie provenant d'un motif comprenant le film multicouche au moyen des informations des propriétés optiques de la lumière réfléchie provenant du film multicouche qui ont été détectées sur le moyen de détection de propriétés optiques, ce qui permet d'inspecter un motif formé sur le film multicouche.
(JA)ハードディスク用のパターンドメディアの光学的な検査において、下地膜の膜厚変動,膜質変動の影響を受けることなくパターンの検査を行えるようにするために、パターン検査装置を、試料を載置して回転可能な回転テーブル手段と、試料に照明光を照射する照明手段と、照明手段で光を照射された領域からの反射光を分光して検出する分光検出手段と、分光検出手段で分光して検出した基板のパターンが形成されていない領域からの反射光検出信号を処理して多層膜の光学特性を検出するとともに多層膜を含むパターンからの反射光検出信号を処理して多層膜を含むパターンからの反射光の光学特性を検出する光学特性検出手段と、光学特性検出手段で検出した多層膜からの反射光の光学特性の情報を用いて多層膜を含むパターンからの反射光の光学特性の情報を処理することにより多層膜上に形成されたパターンを検査するパターン検査手段とを備えて構成した。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)