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1. (WO2011096200) 干渉測定装置および測定方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2011/096200    国際出願番号:    PCT/JP2011/000561
国際公開日: 11.08.2011 国際出願日: 02.02.2011
IPC:
G01B 11/06 (2006.01), G01B 9/02 (2006.01), G01K 11/12 (2006.01)
出願人: National University Corporation Nagoya University [JP/JP]; 1, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya-shi, Aichi 4648601 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NU System Corporation [JP/JP]; Suite #1, Science Exchange Plaza, 2271-129, Aza Anagahora, Oaza Shimoshidami, Moriyama-ku, Nagoya-shi, Aichi 4630003 (JP) (米国を除く全ての指定国).
Meijo University [JP/JP]; 1-501, Shiogamaguchi, Tempaku-ku, Nagoya-shi, Aichi 4688502 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HORI, Masaru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITO, Masafumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIGASHIJIMA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OHTA, Takayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HORI, Masaru; (JP).
ITO, Masafumi; (JP).
HIGASHIJIMA, Yasuhiro; (JP).
OHTA, Takayuki; (JP)
代理人: FUJITANI, Osamu; Marunouchi KS Bldg. 16F, 18-25, Marunouchi 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600002 (JP)
優先権情報:
2010-024491 05.02.2010 JP
発明の名称: (EN) INTERFERENCE MEASUREMENT DEVICE AND MEASUREMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE MESURE D'INTERFÉRENCE
(JA) 干渉測定装置および測定方法
要約: front page image
(EN)In order to improve the measurement accuracy in an interference measurement device using the interference of light, provided is an interference measurement device configured by a light source (10) which emits supercontinuum light (SC light), an optical fiber coupler (11) which divides the SC light into measurement light and reference light, a dispersion compensation element (12), a drive unit (13) which moves the dispersion compensation element (12), and a light receiving means (14) which measures the interference waveform between the measurement light and the reference light. A measurement object (15) that is an object to be measured is a Si substrate with a thickness of 800 μm. The dispersion compensation element (12) is a Si substrate with a thickness of 780μm. That is to say, the dispersion compensation element (12) is produced from the same material as the measurement object (15) and thinner than the measurement object (15) by 20μm. The peak width of interference caused by reflections from the back surface of the measurement object (15) and the back surface of the dispersion compensation element (12) is narrow since the wavelength dispersion is substantially canceled, thereby improving the measurement accuracy of the peak position. As a result, the measurement accuracy of the temperature and the like is improved.
(FR)Pour améliorer la précision de mesure d'un dispositif de mesure d'interférence utilisant l'interférence de la lumière, l'invention propose un dispositif de mesure d'interférence constitué d'une source lumineuse (10) qui émet une lumière de supercontinuum (lumière SC), d'un coupleur de fibre optique (10) qui divise la lumière SC en une lumière de mesure et une lumière de référence, d'un élément de compensation de la dispersion (12), d'une unité d'entraînement (13) qui déplace l'élément de compensation de la dispersion (12) et d'un moyen récepteur de lumière (14) qui mesure la forme d'onde d'interférence entre la lumière de mesure et la lumière de référence. L'objet de mesure (15) constituant l'objet à mesurer est un substrat de Si ayant une épaisseur de 800 μm. L'élément de compensation de la dispersion (12) est un substrat de Si ayant une épaisseur de 780 μm. Plus précisément, l'élément de compensation de la dispersion (12) est constitué du même matériau que l'objet de mesure (15) mais est plus mince de 20 μm que l'objet de mesure (15). La largeur du pic d'interférence provoqué par les réflexions sur la surface arrière de l'objet de mesure (15) et la surface arrière de l'élément de compensation de la dispersion (12) est faible car la dispersion de longueur d'onde est sensiblement annulée, améliorant ainsi la précision de mesure de la position du pic. Cela permet, en conséquence, d'améliorer la précision de mesure de la température ou autre.
(JA)【課題】光の干渉を利用した干渉測定装置において、測定精度を向上させること。 【解決手段】干渉測定装置は、スーパーコンティニューム光(SC光)を放射する光源(10)と、SC光を測定光と参照光とに分割する光ファイバカプラ(11)と、分散補償素子(12)と、分散補償素子(12)を移動させる駆動装置(13)と、測定光と参照光との干渉波形を測定する受光手段(14)と、によって構成されている。測定対象である測定物(15)は、厚さ800μmのSi基板である。分散補償素子(12)は、厚さ780μmのSi基板である。つまり、分散補償素子(12)は、測定物(15)と同一の材料であり、測定物(15)よりも20μm薄い。測定物(15)裏面と分散補償素子(12)裏面での反射による干渉は、波長分散がほぼ打ち消されるためピーク幅が狭く、ピーク位置の測定精度が向上する。その結果、温度等の測定精度が向上する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)